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光刻膠

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光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要收起

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  • 國產(chǎn)光刻膠，破冰前行
    國產(chǎn)光刻膠，破冰前行
    今年以來，全球半導體產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展，光刻膠作為核心材料，迎來了技術突破與市場擴展的雙重契機，尤其是在國內(nèi)，光刻膠的研發(fā)和生產(chǎn)取得了一系列積極進展：此前，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創(chuàng)立的太紫微公司推出了T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列；光刻膠廠商阜陽欣奕華沖刺IPO，已開啟上市輔導備案；威邁芯材半導體高端光刻材料DUV級別（ArF/KrF）項目主體封頂；湖北武漢光谷實驗室研發(fā)出高性能量子點光刻膠....而近日，鼎龍股份、容大感光又再次帶來新消息。
  • 一個國內(nèi)供應商還比較少的行業(yè)：光刻配套試劑
    一個國內(nèi)供應商還比較少的行業(yè)：光刻配套試劑
    但凡對于半導體行業(yè)稍微有些了解的朋友對于光刻膠這個名詞一定耳熟能詳了。但大多數(shù)人不一定熟知的是：其實在實際半導體制造中還需要不少和光刻膠配套使用的化學試劑，比如：顯影液和剝離液：這兩種化學試劑知道的人還比較多，也比較容易理解
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    11/02 08:55
  • 介紹一款光刻增粘劑-Ti Prime
    學員問：在做光刻時，光刻膠很容易脫落，有什么好的改進措施嗎？為什么光刻膠會脫落？脫落主要是因為光刻膠與晶圓的粘附性不佳，而導致粘附性不佳的原因有很多，比如晶圓的材質(zhì)原因，晶圓表面過于光滑，晶圓表面殘留水分，光刻膠過厚內(nèi)應力過大等。這個時候，在晶圓表面增加一個增粘步驟是很有必要的。
  • 勻膠時邊膠過厚如何改善？
    什么是wafer edge bead？wafer edge bead，又叫做邊膠，是指在晶圓的邊緣區(qū)上的光刻膠出現(xiàn)較厚的突起現(xiàn)象。
  • 什么是正負反轉(zhuǎn)光刻膠？
    學員問：圖形反轉(zhuǎn)膠兼具了正膠和負膠的作用，請問如何實現(xiàn)兩種功能的轉(zhuǎn)換？原理是什么？什么是正負反轉(zhuǎn)膠？在一款光刻膠中既可以實現(xiàn)正膠功能，也可以實現(xiàn)負膠功能。主要功能以負膠為主，用于晶圓制造的lift off制程。最常見的正負反轉(zhuǎn)膠要數(shù)AZ5214E,固含量28%左右，勻膠厚度在1-2um之間。
  • 光刻膠的旋涂曲線受那些因素影響？
    光刻膠的旋涂曲線受那些因素影響？
    學員問：聽光刻的老師傅說，光刻膠的旋涂一般會遵循特定的旋涂曲線規(guī)律，可以介紹下旋涂曲線的相關知識嗎？
  • PMMA是光刻膠嗎？
    學員問：PMMA是電子束光刻中用的材料，具有光敏性嗎，算光刻膠嗎？什么是PMMA？
  • 最新，國產(chǎn)光刻膠通過驗證！
    最新，國產(chǎn)光刻膠通過驗證！
    據(jù)“中國光谷”消息，光谷企業(yè)近日在半導體專用光刻膠領域?qū)崿F(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。
  • 新型顯示光刻膠亟待突破
    新型顯示光刻膠亟待突破
    近日，中國光學光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會常務副秘書長胡春明表示，我國顯示面板行業(yè)發(fā)展迅速，相關的原材料大多已實現(xiàn)本地供應，但彩色/黑色光刻膠的國產(chǎn)化率仍然非常低，新型顯示用光刻膠這個整體市場規(guī)模不足百億元的原材料卻緊扣著超萬億元總投資的產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
  • 勻膠轉(zhuǎn)速過大為什么會造成光刻膠條紋？
    學員問：勻膠后發(fā)現(xiàn)晶圓表面出現(xiàn)很多條紋，什么原因?qū)е碌?？有什么解決思路？為什么會出現(xiàn)光刻膠條紋？光刻膠條紋的出現(xiàn)最根本原因是膠面的不平整，均勻性不好，有的部位膠比較厚有的部位膠比較薄，以條紋狀的形式分布。這種原因是由于勻膠的轉(zhuǎn)速過大導致的。
  • 這家瑞士零部件公司，為何能與國際半導體龍頭頻頻合作？
    這家瑞士零部件公司，為何能與國際半導體龍頭頻頻合作？
    大家好，這里是芯片揭秘，本期節(jié)目我們邀請到一家非常國際化的公司——SAWATEC，給大家?guī)硭麄冏钚碌漠a(chǎn)品展示。坐在我身邊的是SAWATEC的董事長兼CEO MARCELLO PICCIRLLO先生，和SAWATEC中國區(qū)總經(jīng)理宋春玲女士。
  • 正性光刻膠的曝光機理
    學員問：正膠在曝光后，曝光部分會被顯影液除去，未曝光部分會被保留，機理是什么？可以講一講嗎？光刻膠主要是由感光劑，樹脂，溶劑，添加劑（增塑劑、表面活性劑、光敏穩(wěn)定劑等）。樹脂是光刻膠的基本骨架，對光不敏感。溶劑主要包括PGMEA,EGMEAD等，用于稀釋光刻膠，調(diào)整其粘度。感光劑主要是對于光能發(fā)生光化學反應。
  • 全球芯片關鍵技術研究最新進展
    全球芯片關鍵技術研究最新進展
    在全球新一輪科技革命中，芯片產(chǎn)業(yè)不僅關乎著國家信息安全和科技地位，也是衡量一個國家現(xiàn)代化進程和綜合國力的指標之一，并被業(yè)界稱為全球最具戰(zhàn)略性價值的產(chǎn)品。供需市場瞬息萬變，面對全球半導體芯片產(chǎn)業(yè)鏈分工模式的大變局，具備自主可控的產(chǎn)業(yè)鏈和供應鏈體系是全球各地區(qū)永不松懈的動力和目標，因此，突破芯片產(chǎn)業(yè)“卡脖子”技術瓶頸成為其破局必經(jīng)之道。
  • 什么是光刻膠的堅膜與“打膠”？
    什么是光刻膠的堅膜與“打膠”？
    學員問：想問下腐蝕前的堅膜是為了增加膠的附著性，那堅膜后加一步“打膠”，這一步是什么作用，“打膠”該怎么“打”？
  • 日本光刻膠市場地位：是否真的堅不可摧？
    日本光刻膠市場地位：是否真的堅不可摧？
    近期，隨著全球半導體市場逐漸回暖，光刻膠作為半導體工藝中不可或缺的重要材料，其生產(chǎn)廠商的訂單也開始增多，擴大產(chǎn)能成了新風向。例如，信越化學宣布，為了擴大半導體光刻材料業(yè)務，決定在日本群馬縣伊勢崎市新建其第四座生產(chǎn)工廠。東京應化宣布在韓國京畿道平澤市新建工廠，作為其在韓國的光刻膠研發(fā)、生產(chǎn)和銷售基地。當前，日本企業(yè)占據(jù)了全球光刻膠市場約70%到90%的份額，特別是在高端的ArF和EUV光刻膠領域，市場占有率甚至超過90%，光刻膠也成為了日本在全球半導體制造鏈中的絕對依仗。
  • 高NA EUV迎來制程的岔路口
    高NA EUV迎來制程的岔路口
    半導體行業(yè)的領軍企業(yè)正努力爭取進入所謂的“埃時代”（Angstrom era）。在所謂的3nm工藝節(jié)點附近的節(jié)點上，以“?！倍皇且浴凹{米”來命名技術節(jié)點成為了一種時尚，因此不是1.5nm，而是15埃。正是在這一點上，對晶圓上更精細圖案的要求超出了當今EUV光刻系統(tǒng)和程序的能力。
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    04/23 10:40
  • 剛?cè)胄泄饪棠z行業(yè)，需要掌握哪些知識？
    剛?cè)胄泄饪棠z行業(yè)，需要掌握哪些知識？
    光刻工序的費用占了芯片制程費用的三分之一，其中光刻膠是光刻制程必不可少的材料。目前光刻膠的國產(chǎn)替代是一個機遇。光刻膠種類包括PCB 光刻膠、顯示用光刻膠、半導體光刻膠。
  • 上海新陽、容大感光等企業(yè)光刻膠最新動態(tài)披露
    上海新陽、容大感光等企業(yè)光刻膠最新動態(tài)披露
    光刻膠是半導體制作的關鍵材料，被譽為電子化學品產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”。其能夠利用光化學反應，經(jīng)過曝光、顯影等光刻工藝，將所需微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上。半導體光刻膠品種眾多，包括EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠、I/G線光刻膠。
  • 為刻蝕終點探測進行原位測量
    為刻蝕終點探測進行原位測量
    介紹 半導體行業(yè)一直專注于使用先進的刻蝕設備和技術來實現(xiàn)圖形的微縮與先進技術的開發(fā)。隨著半導體器件尺寸縮減、工藝復雜程度提升，制造工藝中刻蝕工藝波動的影響將變得明顯?？涛g終點探測用于確定刻蝕工藝是否完成、且沒有剩余材料可供刻蝕。這類終點探測有助于最大限度地減少刻蝕速率波動的影響。 刻蝕終點探測需要在刻蝕工藝中進行傳感器和計量學測量。當出現(xiàn)特定的傳感器測量結(jié)果或閾值時，可指示刻蝕設備停止刻蝕操作。如
  • 存儲器、CIS、光刻膠之后，模擬芯片聞風而“漲”？
    存儲器、CIS、光刻膠之后，模擬芯片聞風而“漲”？
    自今年下半年以來，隨著原廠大幅減產(chǎn)，智能手機新機型發(fā)表及AI PC等刺激終端消費需求，消費性電子周期回暖，可以明顯看到半導體景氣正由谷底回升。在此之際，部分芯片聞風而“漲”，半導體市場掀起新一輪漲價潮。

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