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EUV光刻機

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極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。收起

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  • 日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    近日，芯片制造領域傳來重大消息：Rapidus開始安裝ASML EUV光刻機，成為首家接收EUV光刻設備的日本半導體公司。這一舉措無疑在全球芯片產(chǎn)業(yè)中掀起了波瀾。
  • 深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設備展開激烈競爭，爭相導入或宣布市場進展，預示著半導體行業(yè)將迎來新一輪技術革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關注與行動。
  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    雖然表面上看，光刻機是半導體制造的工具之一，但它的背后涉及復雜的多學科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
  • ASML業(yè)績“暴雷”
    ASML業(yè)績“暴雷”
    ASML營收額的增長勢頭可能將迎來急剎車。荷蘭費爾德霍芬時間10月15日，ASML發(fā)布2024年第三季度財報，財報顯示，2024年第三季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額74.67億歐元，環(huán)比增長19.6%；凈利潤達20.77億歐元，環(huán)比增長31.6%，二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來的歷史新高。然而，該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元，環(huán)比減少52.7%，不及市場預期的54億歐元的一半，接近2021年第一季度以來的歷史低值（2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元）。
  • ASML發(fā)布2024年第三季度財報 | 凈銷售額75億歐元，凈利潤為21億歐元
    ASML發(fā)布2024年第三季度財報 | 凈銷售額75億歐元，凈利潤為21億歐元
    阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第三季度財報。2024年第三季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為50.8%，凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2，其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間，毛利率介于49%到50%，2024年全年的凈銷售額約為280億歐元。ASML還預計，2025年的凈銷售額在300億至
  • 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    8月7日消息，近日日本沖繩科學技術大學（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領的研究團隊提出了一項全新、大幅簡化的面向極紫外（EUV）光刻機的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學性能的同時，能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說，提了高到了原來的10倍，可說是一大突破。
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    從EUV光刻機到你的牙齒：悄然發(fā)力的中國3D打印
    從2納米到40微米，從光刻機到人的牙齒，有著怎樣的關系？在小紅書上，有一批“網(wǎng)紅”正在爭相試用一款操作起來“像做美甲一樣便捷”的牙齒貼面產(chǎn)品。
  • ASML的EUV光刻機型號匯總
    ASML的EUV光刻機型號匯總
    上期文章中，我們列舉了ASML的G線，i線光刻機型號，見文章：ASML的光刻機型號匯總(上)本期，我們要羅列下ASML的EUV光刻機的型號及主要技術參數(shù)。
  • EUV光刻機有多牛？
    華為的麒麟990系列芯片、蘋果手機的A14處理器（5納米工藝）以及M1處理器以及三星的Exynos 9825處理器都是用EUV光刻機生產(chǎn)出來的。換句話說，7納米以下的芯片，沒有EUV光刻機造不出來！
  • 近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了
    近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了
    7月17日，全球最大的光刻設備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預訂額。不過相比去年同期的營收69億歐元、凈利潤19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績不及當時水平。
  • 存儲市場吹響EUV光刻機集結號
    存儲市場吹響EUV光刻機集結號
    AI浪潮下，存儲市場DRAM芯片正朝著更小、更快、更好的方向發(fā)展，EUV光刻機擔當重任。三大DRAM原廠中有兩家已經(jīng)引進EUV光刻機生產(chǎn)DRAM芯片，美光相對保守，不過也于今年將在1γ（1-gamma）制程進行EUV技術試產(chǎn)，三大原廠集結，存儲市場EUV光刻機時代開啟。
  • 晶圓代工廠“頭疼”？阿斯麥Hyper-NA EUV售價或超7.24億美元
    晶圓代工廠“頭疼”？阿斯麥Hyper-NA EUV售價或超7.24億美元
    近日，據(jù)朝鮮日報報道，阿斯麥（ASML）將針對1納米以下制程，計劃在2030年推出更先進Hyper-NA EUV光刻機設備，但可能超過7.24億美元一臺的售價會讓臺積電、三星、英特爾等半導體晶圓代工廠商望而卻步。
  • EUV光刻機變數(shù)陡增
    EUV光刻機變數(shù)陡增
    最近，關于EUV光刻機，又有勁爆消息傳出。據(jù)外媒報道，有消息人士透露，由于美國施壓，ASML向荷蘭政府官員保證，在特殊情況下，該公司有能力遠程癱瘓（remotely disable）臺積電使用的EUV光刻機。知情人士稱，ASML擁有“鎖死開關”（kill switch），可以遠端強制關閉EUV。
  • ASML最先進的光刻機，花落誰家？
    ASML最先進的光刻機，花落誰家？
    4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預計將于2026年左右發(fā)布。
  • High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
    High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
    光刻機一直是半導體領域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎；再到后來的極紫外光刻機（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機（High-NA）正式登上歷史舞臺，進一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。
  • 史上最大光刻機拆箱視頻發(fā)布！
    史上最大光刻機拆箱視頻發(fā)布！
    3月7日報道，最近英特爾芯片制造業(yè)務一片向好，狀態(tài)可謂是春風得意、喜上眉梢，一大原因是，價值近4億美元的全球第一臺High-NA EUV光刻機已經(jīng)進入了英特爾的工廠。
  • 2nm情結
    2nm情結
    一輛載著印有“ASML”LOGO保護箱的卡車駛入美國俄勒岡州（Oregon）的英特爾希爾斯伯勒（Hillsboro）園區(qū)。箱身上綁著紅繩，并系了蝴蝶結，里面是荷蘭ASML研制出的全球首臺高數(shù)值孔徑極紫外光刻機（High NA EUV）的一部分。
  • 沒有EUV光刻機，也造不了5nm、3nm，國產(chǎn)芯片如何突破？
    沒有EUV光刻機，也造不了5nm、3nm，國產(chǎn)芯片如何突破？
    潮流如暗流，迅猛而至，行業(yè)龍頭也被沖擊的手忙腳亂。當半導體加工的制程微縮游戲走到盡頭，先進封裝，逐漸成為芯片行業(yè)的勝負手。年初，任誰也料想不到，今年的半導體產(chǎn)業(yè)會如此的冰火兩重天。在今年整個芯片行業(yè)由于去庫存滿目哀鴻遍野之際，英偉達的AI芯片卻一顆難求，國內(nèi)互聯(lián)網(wǎng)大佬們親自飛往英偉達總部加州，只為多求幾顆A800和H800。
  • 美國官方報告：深度解析EUV光刻的現(xiàn)狀、需求和發(fā)展
    美國官方報告：深度解析EUV光刻的現(xiàn)狀、需求和發(fā)展
    2022年，半導體市場規(guī)模約為0.6萬億美元，商業(yè)分析師預計到2030年將翻一番1.0萬億美元至1.3萬億美元。半導體制造業(yè)的大幅增長可以在光刻工藝中體現(xiàn)出。光刻是一種圖案化過程，將平面設計轉移到晶圓基板的表面，創(chuàng)造復雜的結構，如晶體管和線互連。這是通過通過復雜的多步過程選擇性地將光敏聚合物或光刻膠暴露于特定波長的光下來完成的。最近，光刻技術的進步在生產(chǎn)最先進的半導體方面創(chuàng)造了競爭優(yōu)勢，使人工智能（AI）、5G電信和超級計算等最先進的技術成為可能。因此，先進的半導體技術會影響國家安全和經(jīng)濟繁榮。
  • 光刻機國產(chǎn)替代任重道遠
    光刻機國產(chǎn)替代任重道遠
    日前，ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采訪時表示，盡管供應商出現(xiàn)了一些阻礙，但公司仍會按照此前設定的計劃，在今年年底之前交付 High NA EUV 機器。就此，一些自媒體認為，是國產(chǎn)EUV光刻機快要商用了，所以ASML決定松口賣機器。同時，網(wǎng)上盛傳各種小道消息，言之鑿鑿國產(chǎn)光刻機就要逆襲了。

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