一輛載著印有“ASML”LOGO保護箱的卡車駛入美國俄勒岡州(Oregon)的英特爾希爾斯伯勒(Hillsboro)園區(qū)。箱身上綁著紅繩,并系了蝴蝶結,里面是荷蘭ASML研制出的全球首臺高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(High NA EUV)的一部分。
這是目前唯一能夠實現(xiàn)2nm工藝的光刻機,它的交付,意味著全球范圍內的芯片“制程大戰(zhàn)”將會進入2nm階段。在當前臺積電領先、英特爾和三星加緊追趕的晶圓制造格局中,不論是想保持領先,還是想彎道超車,都將2nm視為競爭的“致命武器”。2nm果真能堪此重任么?隨著2nm之戰(zhàn)越來越近,有必要厘清業(yè)界的2nm情結。
得ASML者得2nm?
“如果單討論2nm工藝的實現(xiàn),毫無疑問,ASML的0.55數(shù)值孔徑EUV光刻機是一切的先決條件?!睒I(yè)內專家莫大康告訴《中國電子報》記者。
從縱向的晶圓生產流程來看,設備與硅片是晶圓生產活動的起點,優(yōu)先級高于光刻膠以及其他應用于生產過程中的氣體材料。設備升級是實現(xiàn)2nm工藝節(jié)點飛躍的必要條件,而材料升級是錦上添花的部分。
從橫向的平替設備來看,極紫外光刻是成熟度最高的方式。在極紫外光刻之外,佳能全力押注納米壓印技術。不同于將光照直接打在掩模版上,并通過透鏡最終折射在晶圓上的極紫外光刻,納米壓印是將電路圖形通過“蓋章”的方式壓在晶圓上的一種技術路徑。佳能CEO御手洗富士夫曾表示,納米壓印單次光刻工序的成本為傳統(tǒng)光刻成本的二分之一。雖然納米壓印具有成本優(yōu)勢,但是由于其工藝存在一定特殊性,且對于制造環(huán)境的要求很高,加之當前還未出現(xiàn)量產的成功案例,想要通過納米壓印實現(xiàn)2nm還需時間檢驗。
2nm與EUV設備高度綁定,這幾乎是不爭的事實。因此,幾家晶圓代工企業(yè)必須和世界唯一的光刻機設備廠商ASML“搞好關系”。
1987年,臺積電剛剛成立,ASML還是飛利浦旗下的一家小公司。飛利浦以芯片技術換取了臺積電27.5%的股份。1988年,臺積電因為廠房遭遇大火,向ASML一口氣訂購了17臺光刻機,兩家企業(yè)從此建立聯(lián)系。在之后數(shù)十年的歲月中,ASML的新設備都會交付給臺積電,而臺積電也會將在晶圓廠積累的數(shù)據(jù)反饋給ASML。
2012年,三星以363億韓元購買了ASML3%的股份。2023年12月,三星電子董事長李在镕隨韓國總統(tǒng)尹錫悅訪問ASML總部,并宣布將與ASML共同投資1萬億韓元在韓國建立研究中心。
日本建立不久的Rapidus也頻繁向ASML示好,并派遣員工進入ASML學習,足以見其對光刻設備的重視。
英特爾早在2022年1月就宣布向ASML發(fā)出了第一份采購訂單,約定購買后者0.55數(shù)值孔徑的EUV光刻機。2024年,隨著ASML的訂單陸續(xù)交付給芯片制造廠和IDM,2nm將會進入“競速賽”的階段。
高良率量產是道坎?
先做出2nm意味著立于不敗之地嗎?答案當然是否定的。產業(yè)界關注的并非2nm的生產,而是量產。早在2021年5月,IBM就已經(jīng)通過多重曝光技術實現(xiàn)了2nm工藝,這也是日本Rapidus派員去IBM學習其先進技術的主要原因。但是IBM的成果科研屬性強于商業(yè)屬性,換言之,它既沒有能夠生產2nm制程的光刻機,同時也不具備其他芯片制造廠量產2nm的資金和生產線,也就無法應對未來持續(xù)增長的先進制程的需求。
量產之外,還有良率的問題需要晶圓廠考慮。
以目前臺積電和三星的3nm為例,其良率基本在60%-70%浮動,而如果到2nm階段,良率只可能更低。
“影響良率主要有三個因素,一是刻蝕精度,這個通過設備可以有效解決;二是硅片的缺陷密度,它與加工過程及材料等有關。”莫大康表示,“重要的是隨著制程的升級,過小的尺寸容易伴生量子隧穿效應,甚至是漏電現(xiàn)象。這會導致許多隨機誤差的出現(xiàn),而晶圓廠憑借現(xiàn)有技術,也很難在短時間內定位和消磨這些隨機性極強的誤差。”
目前,三星電子采用了GAA架構來防止背面漏電,以求提升3nm的良率。英特爾在20A制程上采用了RibbonFET架構,功能與GAA相似,這也是被視作在為未來的18A制程進行技術積累。而臺積電3nm仍然使用FinFET架構,轉為GAA架構可能要等到2nm之后。
三星電子晶體管結構路線圖(圖片來源:三星電子)
不論是實現(xiàn)量產,還是通過新架構提升良率,背后都牽扯到2nm的制造成本問題。
對于晶圓廠而言,量產2nm所需的設備成本和研發(fā)成本將一路走高,性價比則會降低。機構預測,2nm晶圓片的價格約3萬美元,比3nm要貴50%。同時,由于良率較3nm更低,這將使晶圓廠承擔更多的次品壓力。
據(jù)悉,蘋果在3nm訂單中只向臺積電支付了質量達標的那部分晶圓費用,進入2nm階段后,臺積電將不可避免承擔更大比例的次品成本。
雖然2nm無法為晶圓廠帶來立竿見影的經(jīng)濟收益,但從長期來看,率先實現(xiàn)2nm能夠帶來良好的品牌效益。
什么左右客戶的選擇?
芯片做得好不好最終還是以客戶的訂單量為準。而除了芯片本身的產量、良率、價格因素之外,客戶還有兩方面的顧慮。
一方面,越發(fā)先進的制程工藝帶來的不確定性增加了終端廠商的試錯成本。
蘋果是一家樂于“吃螃蟹”的企業(yè)。2023年,蘋果A17芯片率先采用了臺積電3nm工藝,而在同時期發(fā)布的高通驍龍8Gen3和聯(lián)發(fā)科天璣9300則采用臺積電4nm工藝。在智能手機市場,制程工藝逐漸成為終端廠商差異化競爭的指標之一,蘋果也將“率先使用最先進工藝”視作自身產品的一大賣點。
然而,在3nm中拔得頭籌的蘋果在消費者實際使用中卻出現(xiàn)了發(fā)熱現(xiàn)象,除了iPhone15所使用的鈦金屬手機外殼之外,也可能與臺積電3nm未使用GAA架構有關。
另一方面,長久的深度合作拉高了終端廠商的技術遷移難度。
“這是工藝黏性的問題。芯片設計企業(yè)選擇某家代工廠,代表著雙方之間的技術融合已經(jīng)成功,而如果此時調換到其他代工廠,就意味著IP、EDA等技術都需要重新磨合,這要花費很長時間,同時由于制程越來越先進,遷移帶來的風險也越大?!蹦罂当硎?。
目前,蘋果、英偉達、高通、AMD等設計企業(yè)都與臺積電建立了深度綁定的合作生態(tài)。根據(jù)臺積電2023年第三季度財報,智能手機和HPC領域的訂單占據(jù)了81%的營收占比。其中,智能手機領域環(huán)比增長率更是高達33%。
臺積電2023年第三季度各平臺營收情況(圖片來源:臺積電)
蘋果與臺積電的合作已有十余年,長期深度的合作關系無形中提升了客戶的遷移成本。不過,各芯片設計企業(yè)也在嘗試將產能需求分散給多家代工廠,以此削弱長期合作帶來的工藝黏性。
英偉達不止一次在公開場合透露了自己與英特爾合作的意愿。在2023年12月,英偉達首席財務官Colette Kress在接受采訪時表示:“臺積電一直是出色的公司,我們也請了三星代工相關芯片,當然,我們樂意見到第三家?!倍咄壳半m由臺積電獨家代工,也在觀望三星電子在GAA架構不斷磨合之下的良率提升效果。
在2nm的競爭中,英特爾已經(jīng)獲得了擁有首臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機先機;臺積電既有3nm量產經(jīng)驗,又有長期以來與客戶維持的緊密聯(lián)系;三星電子手握GAA架構,不僅頻繁釋放良率提升的信號,還傳出今年第一季度其代工業(yè)務將降價10%-15%。未來的2nm之爭,以光刻機為起點,最后還是要落在客戶對高良率產品的信任之上。