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“中國半導體產業(yè)正邁入歷史的關鍵時刻，它正計劃在前端和后端制造領域都形成競爭力。這對 Brewer Science 而言是與中國半導體產業(yè)深度融合的歷史契機。Brewer Science 作為一個先進技術與材料的提供者，期待與中國本土半導體供應鏈合作。我們承諾將不斷擴大對中國市場的投入，以材料供應商身份助力中國半導體事業(yè)發(fā)展?！盉rewer Science 先進封裝業(yè)務部門執(zhí)行理事 Kim Arnold 在 SEMICON China 表達了對中國半導體產業(yè)的支持。
Brewer Science 先進封裝業(yè)務部門執(zhí)行理事 Kim Arnold
Brewer Science 成立于 1981 年，是一家專注于開發(fā)和制造創(chuàng)新材料和工藝的高科技公司，總部位于美國，全球擁有 8 個應用實驗室與 15 個技術和服務中心。早在 2004 年，Brewer Science 就在上海設立了技術與服務中心，致力于為中國和亞洲市場提供更好的產品與服務。
Kim 女士表示，自 1981 年 Brewer Science 發(fā)明了 Anti-Reflective Coatings（防反射涂層，簡稱“ARC”）材料，革新了光刻工藝，一直致力于通過技術創(chuàng)新不斷推動摩爾定律向前發(fā)展，Brewer Science 產品組合不斷擴大，囊括可實現(xiàn)先進光刻、薄晶圓處理、3D 集成、化學和機械設備保護的產品以及基于納米技術的產品，分為高級光刻、晶圓級封裝與打印電子類新興市場三大主營業(yè)務。
作為一家半導體上游廠商，Brewer Science 觸及各行各業(yè)，3C 產品、汽車電子、物聯(lián)網、AI 等等。如下圖所示，服務于不同產品領域，Brewer Science 提供了不同的技術與產品組合。
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Kim 女士對高級光刻與晶圓級封裝兩大主營業(yè)務進行了詳細介紹。
高級光刻
Brewer Science 光刻技術發(fā)展史
1981 年，發(fā)明 ARC 材料，到目前為止該材料仍是 Brewer Science 重要的產品；
2000 年，當傳統(tǒng)材料無法滿足生產需要時，提出用多層系統(tǒng)（Multi-layer Systems）的解決技術瓶頸；
2010 年后，在紫外光刻（EUV）與嵌段共聚物定向自組裝（DSA）材料上投入大量研究。
在推動每一個后續(xù)半導體節(jié)點的發(fā)展方面，行業(yè)一直在追求下一代光刻工藝。業(yè)界已提出了多種工藝，包括極 EUV、多電子束光刻、納米壓印光刻和 DSA。和大多數(shù)掩膜版決定圖案的光刻技術不同，在 DSA 技術中，圖案存在于材料本身。盡管 EUV 與 DSA 兩項技術之間有時看起來存在相互競爭，但將二者視為互補技術的觀點則更為可取。
晶圓級封裝
Kim 女士表示，Brewer Science 在晶圓級封裝領域探索始于十多年前。近幾年，Brewer Science 在扇出型封裝技術方面投入大量研究，相信很快有成熟的產品面市，為市場提供服務。
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Kim 女士強調，Brewer Science 在不斷研發(fā)新產品的同時，通過不斷創(chuàng)新對原有產品組合進行升級，比如臨時鍵合 / 解鍵合產品已發(fā)展到第四代，在市場上得到廣泛應用。
滿足高級封裝的需求，Brewer Science 還提供保護涂層、平坦化材料、表面修飾技術、高級封裝技術、激光消融技術。
Kim 女士重申，Brewer Science 作為摩爾定律向前發(fā)展的推動者，將通過不斷的創(chuàng)新與探索，為市場提供先進的材料與技術。
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