加入星計(jì)劃，您可以享受以下權(quán)益：

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴(kuò)散
  • 作品版權(quán)保護(hù)
  • 300W+ 專(zhuān)業(yè)用戶(hù)
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長(zhǎng)期合作伙伴
立即加入

EUV光刻

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點(diǎn)資訊討論

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱(chēng)作EUV光刻，它以波長(zhǎng)為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長(zhǎng)為13.4nm 的紫外線(xiàn)。極紫外線(xiàn)就是指需要通過(guò)通電激發(fā)紫外線(xiàn)管的K極然后放射出紫外線(xiàn)。

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱(chēng)作EUV光刻，它以波長(zhǎng)為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長(zhǎng)為13.4nm 的紫外線(xiàn)。極紫外線(xiàn)就是指需要通過(guò)通電激發(fā)紫外線(xiàn)管的K極然后放射出紫外線(xiàn)。收起

查看更多
  • 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì)提出了一項(xiàng)全新、大幅簡(jiǎn)化的面向極紫外（EUV）光刻機(jī)的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時(shí)，能讓EUV光線(xiàn)以超過(guò)初始值10%的功率到達(dá)晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來(lái)說(shuō)，提了高到了原來(lái)的10倍，可說(shuō)是一大突破。

正在努力加載...