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比較函數(shù)compare()縮寫cmp。compBinary function that accepts two elements in the range as arguments, and returns a value convertible to bool. The value returned indicates whether the element passed as first argument is considered to go before the second in the specific strict weak ordering it defines.The function shall not modify any of its arguments.This can either be a function pointer or a function obje

比較函數(shù)compare()縮寫cmp。compBinary function that accepts two elements in the range as arguments, and returns a value convertible to bool. The value returned indicates whether the element passed as first argument is considered to go before the second in the specific strict weak ordering it defines.The function shall not modify any of its arguments.This can either be a function pointer or a function obje收起

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  • 一文了解芯片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)
    化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing,?簡稱?CMP）技術(shù)是一種依靠化學(xué)和機(jī)械的協(xié)同作用實(shí)現(xiàn)工件表面材料去除的超精密加工技術(shù)。下圖是一個典型的?CMP?系統(tǒng)示意圖：
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  • 全球半導(dǎo)體離子注入/CMP設(shè)備供應(yīng)商匯總（2025）
    繼續(xù)發(fā)布一下半導(dǎo)體設(shè)備的供應(yīng)商數(shù)據(jù)吧今天在我的數(shù)據(jù)庫里選了半天，還是挑了離子注入和CMP兩種設(shè)備。這兩種設(shè)備在技術(shù)路徑上完全不一樣，能夠同時提供兩種設(shè)備的廠商也只有美國的AMAT和我國的華海清科不過由于在半導(dǎo)體前道制造領(lǐng)域的各種設(shè)備里，這兩類設(shè)備的市場都相對較小，導(dǎo)致供應(yīng)商數(shù)量偏少，單獨(dú)陳列的話顯得太單薄，
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  • cmp工藝中的dishing（凹陷）與ersion（腐蝕）
    學(xué)員問：cmp中凹陷和腐蝕有什么區(qū)別？產(chǎn)生的原因有哪些？dishing與ersion是什么？
    2511
    02/17 13:35
    CMP
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  • 國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備新動向，離子注入等迎新局
    在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，離子注入和超聲波技術(shù)作為中國半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展的兩大驅(qū)動力，正助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更高端、更先進(jìn)的方向邁進(jìn)。近期，行業(yè)內(nèi)波瀾涌動，傳來兩大重磅事件：一邊是華海清科擬通過收購芯崳公司加速布局離子注入機(jī)，有望攻克離子注入機(jī)這一關(guān)鍵設(shè)備的潛在壁壘；另一邊，半導(dǎo)體超聲設(shè)備企業(yè)驕成超聲總部基地開工，預(yù)示著在半導(dǎo)體超聲應(yīng)用方面將邁向新臺階。
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  • CMP技術(shù)解析：平坦化機(jī)理、市場現(xiàn)狀與未來展望
    化學(xué)機(jī)械拋光（CMP，Chemical Mechanical Polishing）作為一種關(guān)鍵的半導(dǎo)體制造工藝，近年來隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其重要性日益凸顯。CMP通過化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨的協(xié)同作用，實(shí)現(xiàn)對晶圓表面的超精密平坦化處理，是先進(jìn)制程（如7nm、5nm及以下）中不可或缺的技術(shù)。
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  • 一文看懂半導(dǎo)體拋光研磨CMP技術(shù)
    在半導(dǎo)體制造過程中，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是一項(xiàng)至關(guān)重要的技術(shù)。CMP技術(shù)的出現(xiàn)和發(fā)展使得制造更小、更復(fù)雜的芯片成為可能。在單晶硅片的制造過程中，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)在前半制程中扮演著至關(guān)重要的角色，并且需要多次應(yīng)用。相較于傳統(tǒng)的機(jī)械拋光方法，CMP技術(shù)不僅能夠?qū)崿F(xiàn)硅片表面的更高平整度，還因其較低的成本和簡便的操作流程，已經(jīng)發(fā)展成為目前半導(dǎo)體材料表面平整處理的主流技術(shù)。
    4608
    2024/08/19
    CMP
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  • 晶圓制造CMP工程師面試干貨小結(jié)
    感謝國內(nèi)某知名Fab廠工作6年的張工對CMP面試問題的解答。CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）工藝是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟之一，它結(jié)合了化學(xué)腐蝕和機(jī)械磨削，旨在實(shí)現(xiàn)晶圓表面的全局平坦化。
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  • 面試 | 光刻工藝,晶圓制造,CMP,PIE工程師面試問題合集
    本篇匯集了關(guān)于光刻工藝、晶圓制造相關(guān)崗位，以及FPGA工程師面試時的常見問題。且在持續(xù)更新中……? 切記收藏哦！
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  • 晶圓制造CMP工程師面試常見問題
    以下問題希望能全面評估工程師在CMP領(lǐng)域的技術(shù)深度、解決問題的能力、溝通協(xié)作能力，以及對未來發(fā)展的思考。
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  • 晶圓制造CMP缺陷淺析
    CMP是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的平坦化工藝，它通過機(jī)械磨削和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的方式，去除材料以實(shí)現(xiàn)平坦化。然而，由于其復(fù)雜性，CMP工藝中可能會出現(xiàn)多種缺陷。這些缺陷通?？梢苑譃闄C(jī)械、化學(xué)和表面特性相關(guān)的類別。
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  • 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的清華力量
    在中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展史上，清華大學(xué)占據(jù)著無可替代的地位。某種意義上，清華大學(xué)可以說是中國的“造芯孵化器”，也被譽(yù)為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的“黃埔軍?！?，國內(nèi)至少有一半半導(dǎo)體企業(yè)的創(chuàng)始團(tuán)隊(duì)、高管畢業(yè)于清華大學(xué)，他們在我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的過程中，發(fā)揮了難以估量的重要影響力。可以說清華系半導(dǎo)體企業(yè)的發(fā)展，是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的一個縮影。 清華系半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)天團(tuán)星光熠熠 根據(jù)中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，知名的清華
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  • 特瑞堡完成半導(dǎo)體收購，擴(kuò)大在亞洲的產(chǎn)能
    Trelleborg完成了對韓國領(lǐng)先制造商MNE Group的收購，大大增強(qiáng)了其在半導(dǎo)體密封市場的能力。 MNE集團(tuán)由材料納米工程和材料納米解決方案公司組成，主要為售后市場和原始設(shè)備制造商生產(chǎn)高性能特種密封件。此次收購為特瑞堡密封解決方案公司提供了新的產(chǎn)品和能力，并與全球最大的半導(dǎo)體本土市場之一的一些最重要的制造商建立了客戶聯(lián)系。 Trelleborg Sealing Solutions業(yè)務(wù)區(qū)總裁
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  • 2項(xiàng)SiC新技術(shù)：8吋襯底、CMP效率提升500%
    近日，國內(nèi)2家企業(yè)/團(tuán)隊(duì)宣布取得SiC新突破，涉及8吋復(fù)合襯底、無損拋光裝備等。前天，世紀(jì)金芯宣布成功制備了8吋SiC單晶（.點(diǎn)這里.）；4月11日，青禾晶圓也在官微宣布，他們突破了8英寸SiC鍵合襯底制備。
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  • 這家SiC設(shè)備相關(guān)廠商今日上會！
    上交所信息顯示，2月5日，北京晶亦精微科技股份有限公司（以下簡稱：晶亦精微）首發(fā)上會，未來將在科創(chuàng)板上市，保薦人為中信證券股份有限公司。
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  • 半導(dǎo)體前道CMP耗材供應(yīng)商列表
    半導(dǎo)體前道材料是目前半導(dǎo)體投資領(lǐng)域的又一個熱門話題。不過它的種類繁多，可謂是五花八門。僅僅一個CMP領(lǐng)域里也用到了好多種，而且供應(yīng)商也各不相同。之前我就已經(jīng)發(fā)布過幾個版本的數(shù)據(jù)了。不過后來又有行業(yè)朋友指點(diǎn)我還有不少重要的分類需要補(bǔ)充
    半導(dǎo)體前道CMP耗材供應(yīng)商列表
  • 半導(dǎo)體CMP耗材供應(yīng)商列表（更新版）
    我在上周公布了半導(dǎo)體前道CMP工序的耗材分類和相關(guān)供應(yīng)商的列表信息。文章發(fā)布后反響不錯，不過也有不少熱心朋友給我反饋，指出了不少錯漏之處。比如有些企業(yè)做的磨料是用于晶圓襯底研磨的，和前道CMP用的Slurry有所區(qū)別，同時也就產(chǎn)品種類和具體企業(yè)給予我不少補(bǔ)充信息
    半導(dǎo)體CMP耗材供應(yīng)商列表（更新版）
  • 半導(dǎo)體CMP耗材供應(yīng)商列表
    半導(dǎo)體材料，尤其是前道的耗材一直是目前一級市場投資機(jī)構(gòu)比較關(guān)心和熱衷的方向。所以，我也打算整理一些這方面的數(shù)據(jù)供大家參考今天我打算把之前整理的CMP耗材的供應(yīng)商數(shù)據(jù)更新發(fā)布一下。目前國內(nèi)相對欠缺最大的領(lǐng)域還是Slurry，雖然已經(jīng)有不少公司在做了，但前道高端領(lǐng)域依舊被日本幾家供應(yīng)商壟斷，短期內(nèi)突破很難。
    半導(dǎo)體CMP耗材供應(yīng)商列表
  • 陶氏化學(xué)Plaquemine廠區(qū)發(fā)生爆炸：將影響CMP拋光液及光刻膠供應(yīng)？
    綜合多家外媒消息顯示，當(dāng)?shù)貢r間7月14日晚上9點(diǎn)30分左右，位于美國路易斯安那州伊貝維爾教區(qū)?(WAFB)?、密西西比河沿岸的陶氏化學(xué)普拉克明（Plaquemine）工廠發(fā)生一系列爆炸，引發(fā)了當(dāng)?shù)氐目只拧?/div>
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    2023/07/17
    陶氏化學(xué)Plaquemine廠區(qū)發(fā)生爆炸：將影響CMP拋光液及光刻膠供應(yīng)？
  • 北京CMP設(shè)備龍頭沖上市！大基金二期參投
    7月5日報(bào)道，上周五，國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備商北京晶亦精微科技股份有限公司（簡稱“晶亦精微”）科創(chuàng)板IPO申請獲受理。
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