加入星計劃,您可以享受以下權(quán)益:

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴散
  • 作品版權(quán)保護
  • 300W+ 專業(yè)用戶
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長期合作伙伴
立即加入

光掩膜

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點資訊討論

在半導(dǎo)體制造的整個流程中,其中一部分就是從版圖到晶圓(wafer)制造中間的一個過程,即光掩膜或稱光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分,是流程中造價最高的一部分,也是限制最小線寬的瓶頸之一。

在半導(dǎo)體制造的整個流程中,其中一部分就是從版圖到晶圓(wafer)制造中間的一個過程,即光掩膜或稱光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分,是流程中造價最高的一部分,也是限制最小線寬的瓶頸之一。收起

查看更多
暫無相關(guān)內(nèi)容,為您推薦以下內(nèi)容

正在努力加載...