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光掩膜

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在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中，其中一部分就是從版圖到晶圓（wafer）制造中間的一個(gè)過(guò)程，即光掩膜或稱(chēng)光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分，是流程中造價(jià)最高的一部分，也是限制最小線(xiàn)寬的瓶頸之一。

在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中，其中一部分就是從版圖到晶圓（wafer）制造中間的一個(gè)過(guò)程，即光掩膜或稱(chēng)光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關(guān)鍵部分，是流程中造價(jià)最高的一部分，也是限制最小線(xiàn)寬的瓶頸之一。收起

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