Part 01、前言
與三極管等其他的有源器件相比,MOSFET的不同尋常之處在于其原理圖符號會包含一個寄生器件——體二極管。那么是不是所有的MOSFET都會有體二極管嗎?這個體二極管它有什么作用呢?
Part 02、所有的MOSFET都會有體二極管嗎?
自從1960年MOSFET在貝爾實驗室誕生之后,MOSFET以來經(jīng)歷了多次工藝革新,從基本結(jié)構(gòu)到材料、工藝技術(shù)的發(fā)展,推動了現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)的進步。下面的表格總結(jié)了MOSFET從誕生以后的關(guān)鍵工藝革新:
時間 | 事件與技術(shù) | 關(guān)鍵特點與意義 |
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1960年 | MOSFET誕生 | 硅基MOS結(jié)構(gòu),SiO?作為柵介質(zhì),開啟FET時代 |
1963年 | CMOS技術(shù)發(fā)明 | 低功耗電路的基礎(chǔ),推動數(shù)字集成電路發(fā)展 |
1970年代 | 功率MOSFET誕生 | 用于開關(guān)電源、馬達驅(qū)動,高輸入阻抗,快速開關(guān) |
1977年 | VDMOS問世 | 垂直結(jié)構(gòu),降低導(dǎo)通電阻,承載更大電流 |
1990年代初 | 溝槽型MOSFET誕生 | 溝槽柵極技術(shù),顯著降低導(dǎo)通電阻,提高開關(guān)速度 |
1998年 | 超結(jié)MOSFET問世 | 交替P/N結(jié)構(gòu),突破導(dǎo)通電阻-擊穿電壓權(quán)衡 |
2011年 | FinFET量產(chǎn) | 3D柵極結(jié)構(gòu),增強溝道控制,實現(xiàn)納米級工藝 |
2010年代 | SiC/GaN MOSFET發(fā)展 | 新材料應(yīng)用,高頻開關(guān),適用于高溫、高壓環(huán)境 |
那么MOSFET經(jīng)歷了這么多代的工藝技術(shù)革新,有沒有哪一代工藝消除掉了MOSFET的體二極管呢?我查閱了一下資料發(fā)現(xiàn)MOSFET的體二極管是其基本結(jié)構(gòu)中固有的,可能某些工藝或器件設(shè)計通過優(yōu)化或替代手段弱化或消除體二極管的影響。大多數(shù)MOSFET工藝并未完全消除體二極管,而是優(yōu)化其特性或通過外部手段替代體二極管功能。嚴(yán)格意義上,只有GaN HEMT完全沒有傳統(tǒng)的體二極管結(jié)構(gòu),而同步整流MOSFET通過控制策略實現(xiàn)了功能上的體二極管替代。其他技術(shù)(如溝槽型、超結(jié)、SiC MOSFET)雖未完全消除體二極管,但優(yōu)化了其性能。
工藝/技術(shù) | 體二極管狀態(tài) | 備注 |
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溝槽型MOSFET(Trench) | 存在但優(yōu)化 | 降低反向恢復(fù)時間,提高性能 |
超結(jié)MOSFET(Super-Junction) | 存在但優(yōu)化 | 導(dǎo)通損耗減少,性能顯著提升 |
同步整流MOSFET | 功能上被替代 | 外部控制同步導(dǎo)通,弱化體二極管作用 |
GaN HEMT | 無體二極管 | 完全不同的導(dǎo)通機制 |
SiC MOSFET | 存在但優(yōu)化 | 更高耐壓、更快恢復(fù) |
總的來說,GaN HEMT是目前真正不包含傳統(tǒng)體二極管的技術(shù),而其他MOSFET工藝通常保留體二極管,只不過體二極管的性能經(jīng)過優(yōu)化,比如反向恢復(fù)時間更短,導(dǎo)通損耗減少,耐壓更高而已。
我們可能會在某些文章中看到一句話,體二極管只在單個的MOS管中存在,在集成電路芯片內(nèi)部通常是沒有的。這句話對嗎?個人覺得不完全正確,在單個分立MOSFET器件中,體二極管通常是固有存在的,這是由于大部分的MOSFET內(nèi)部的PN結(jié)結(jié)構(gòu)決定的。它形成在源極與漏極之間,由于器件物理結(jié)構(gòu)所致,無法避免。
但是在集成電路芯片中,體二極管的存在與否取決于具體的工藝設(shè)計,以CMOS集成電路為例,在標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝中,每個MOSFET仍然有其體區(qū)(P型或N型),通常連到芯片的電源或接地,從而可能形成體二極管。
然而,為了避免體二極管影響電路性能,設(shè)計時會:將襯底與源極連接,使體二極管在正常工作條件下不會導(dǎo)通。使用特殊的布局或隔離技術(shù)(如阱隔離或絕緣體上硅(SOI)技術(shù))來避免或最小化體二極管的影響。
所以體二極管雖然存在,但在正常工作條件下不會導(dǎo)通了。當(dāng)然在某些集成電路中通過絕緣體上硅(SOI)技術(shù)確實可以消除體二極管,這也只是僅限于集成芯片中。
目前我們電路設(shè)計應(yīng)用比較多的采用溝槽型工藝的功率MOSFET還是存在體二極管的。
Part 03、MOSFET的體二極管有什么用?
1. 防反接比如兩個MOSFET背靠背的防反接拓?fù)洌?img decoding="async" class="aligncenter" src="https://wximg.eefocus.com/forward?url=https%3A%2F%2Fmmbiz.qpic.cn%2Fmmbiz_png%2FS1IiaGzQEaKghVic2LtZCsYsc4FOeZkfWCrb8DvnwEHHsoow2zdIaNrfjcVdy1LricDtAyBiadYUOkHfUic094Cujdg%2F640%3Fwx_fmt%3Dpng%26amp%3Bfrom%3Dappmsg&s=d572d5" />
2. 反向電流路徑
體二極管提供了一個天然的反向電流路徑,在某些雙向開關(guān)電路中非常有用。
例如,在H橋逆變器或同步整流器中,體二極管允許電流在MOSFET關(guān)閉時通過反向?qū)ǎ瑥亩鴮崿F(xiàn)電流的雙向流動。
需要注意的是體二極管具有較高的正向壓降一般在0.7V到1.5V之間,反向?qū)〞a(chǎn)生較大的功耗問題。常規(guī)MOSFET的體二極管的反向恢復(fù)速度較慢,在高頻開關(guān)電路中容易引發(fā)開關(guān)損耗,導(dǎo)致電源效率下降和電磁干擾(EMI)增加。
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