從技術(shù)角度來看,Pilot Run是指在新工藝平臺(tái)或新產(chǎn)品開發(fā)過程中,在進(jìn)入大規(guī)模量產(chǎn)之前進(jìn)行的一系列小規(guī)模生產(chǎn)運(yùn)行,用以驗(yàn)證和優(yōu)化工藝流程、設(shè)備性能、材料選擇、設(shè)計(jì)參數(shù)等。通過Pilot Run,可以提前發(fā)現(xiàn)潛在問題,并及時(shí)進(jìn)行調(diào)整,確保后續(xù)大規(guī)模量產(chǎn)的順利進(jìn)行。以下是Pilot Run的主要技術(shù)環(huán)節(jié)與作用:
驗(yàn)證工藝流程:Pilot Run的目的是驗(yàn)證整個(gè)工藝流程是否能夠按照設(shè)計(jì)目標(biāo)進(jìn)行,確保所有步驟的連貫性和可重復(fù)性,特別是在集成電路制造中,工藝流程非常復(fù)雜,每一步都可能影響最終的電性表現(xiàn)和良率。
評(píng)估材料性能:在Pilot Run中,選擇適當(dāng)?shù)牟牧喜y(cè)試其在不同工藝步驟中的表現(xiàn),包括HKMG(High-k Metal Gate)材料、SiGe、TSV材料等。通過小規(guī)模的生產(chǎn)運(yùn)行來確保材料性能符合設(shè)計(jì)要求,并優(yōu)化相應(yīng)的參數(shù)。
優(yōu)化電性表現(xiàn):Pilot Run還用于電性測(cè)試,通過對(duì)參數(shù)如Threshold Voltage (Vt)、Gate Leakage、SRAM、DRAM等關(guān)鍵電性指標(biāo)的評(píng)估,確保產(chǎn)品的電性性能符合要求。Pilot Run中也常涉及對(duì)工藝參數(shù)的微調(diào)來改善電性表現(xiàn)。
良率評(píng)估:良率是制造過程中重要的評(píng)估指標(biāo)。在Pilot Run中,評(píng)估的是新工藝平臺(tái)下產(chǎn)品的制造良率是否達(dá)到預(yù)期。這個(gè)過程通常通過WAT(Wafer Acceptance Test)以及后續(xù)的電性測(cè)試(例如SRAM或DRAM的測(cè)試)來確認(rèn)。
解決工藝問題:Pilot Run過程中經(jīng)常會(huì)遇到一些在設(shè)計(jì)和試驗(yàn)階段未發(fā)現(xiàn)的工藝問題,例如M1與TCP的短路問題、TSV與M1分層問題等。在此階段通過數(shù)據(jù)收集和分析,及時(shí)優(yōu)化工藝流程、參數(shù)設(shè)定,提出相應(yīng)的解決方案。
可靠性驗(yàn)證:在Pilot Run中,還會(huì)進(jìn)行一系列的可靠性測(cè)試,確保在不同工藝環(huán)境下,產(chǎn)品的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。例如HKMG中的Gate Leakage、電遷移、熱穩(wěn)定性等。
KIP和KEP評(píng)估:KIP(Key In-line Parameter)和KEP(Key Electrical Parameter)是Pilot Run中常用的評(píng)估指標(biāo)。這些參數(shù)通過實(shí)際生產(chǎn)數(shù)據(jù)反饋,確保生產(chǎn)過程中關(guān)鍵參數(shù)在控制范圍內(nèi),從而評(píng)估工藝的可行性和穩(wěn)定性。