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HDPCVD

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  • 越制裁,越強(qiáng)大!重要性比肩光刻機(jī)的刻蝕設(shè)備——北方華創(chuàng)
    越制裁,越強(qiáng)大!重要性比肩光刻機(jī)的刻蝕設(shè)備——北方華創(chuàng)
    美日荷相繼加大對(duì)華半導(dǎo)體設(shè)備出口限制,國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫。盡管中國(guó)是全球最大半導(dǎo)體消費(fèi)市場(chǎng),但本土化缺口明顯,2023 年芯片自產(chǎn)率僅 20%、半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率為 35%、高端刻蝕機(jī)等關(guān)鍵領(lǐng)域國(guó)產(chǎn)化率不足 10%。隨著國(guó)產(chǎn)晶圓廠的逆勢(shì)擴(kuò)張、海外制裁趨緊,本土半導(dǎo)體設(shè)備廠商有望擴(kuò)大份額,預(yù)計(jì)2025年國(guó)產(chǎn)化率將達(dá)50%。 前面文章我們分析了國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭之一的中微公司,今天我們繼續(xù)深入研究半導(dǎo)體
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  • HDPCVD的原理
    HDPCVD的原理
    知識(shí)星球里的學(xué)員問:麻煩介紹下HDPCVD的具體用途,原理。 什么是HDPCVD? HDPCVD,全名High Density Plasma Chemical Vapor Deposition,即高密度等離子體化學(xué)氣相沉積。它產(chǎn)生的等離子體密度非常高,通常在1011至1012 ions/cm3的量級(jí)。相比之下,PECVD的等離子體密度就很低了,在間隔寬度小于0.5μm的情況下,用PECVD填充高的

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