電子束

• 東方晶源深耕電子束量測(cè)檢測(cè)核心技術(shù) “三箭齊發(fā)”新一代EOS上“機(jī)”
  

  電子束量測(cè)檢測(cè)設(shè)備是芯片制造裝備中除光刻機(jī)之外技術(shù)難度最高的設(shè)備類別之一，深度參與光刻環(huán)節(jié)、對(duì)制程節(jié)點(diǎn)敏感并且對(duì)最終產(chǎn)線良率起到至關(guān)重要的作用。其最為核心的模塊為電子光學(xué)系統(tǒng)（Electron?Optical?System，簡(jiǎn)稱EOS），決定設(shè)備的成像精度和質(zhì)量， 進(jìn)而決定設(shè)備的性能。 作為電子束量測(cè)檢測(cè)領(lǐng)域的先行者、領(lǐng)跑者，東方晶源始終堅(jiān)持自主研發(fā)，不斷深化研發(fā)投入、加速技術(shù)創(chuàng)新步伐，致力于為客

  與非網(wǎng)編輯

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  08/21 07:17

  半導(dǎo)體工藝 電子束
• lift off工藝為什么常用蒸發(fā)的方式鍍膜？
  學(xué)員問：我觀察到晶圓廠中l(wèi)ift off工藝，鍍膜都是用的電子束蒸發(fā)的方式，很少有用磁控濺射的方式，為什么？

  TOM聊芯片智造

  1484

  08/13 09:43

  電子束 Lift off工藝
• 光刻技術(shù)，有了新選擇
  

  光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。

  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫

  3780

  08/08 10:50

  光刻技術(shù) 電子束
• 替代EUV光刻機(jī)，有戲嗎？
  除了積極跟蹤EUV光刻機(jī)的開發(fā)進(jìn)程，芯片廠商也在尋找能夠替代EUV光刻機(jī)的技術(shù)。被寄予厚望的不僅僅是電子束光刻技術(shù)。鎧俠力推NIL壓印工藝，聲稱有望在2025年實(shí)現(xiàn)5nm工藝；臺(tái)積電采用DUV光刻技術(shù)同樣實(shí)現(xiàn)了7nm工藝，并聲稱DUV光刻技術(shù)可以也可以實(shí)現(xiàn)5nm工藝。

  中國電子報(bào)

  2871

  2022/09/30

  EUV光刻機(jī) 電子束
• 電子束焊接原理
  電子槍中的陰極由于直接或間接加熱而發(fā)射電子，該電子在高壓靜電場(chǎng)的加速下再通過電磁場(chǎng)的聚焦就可以形成能量密度極高的電子束，用此電子束去轟擊工件，巨大的動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱能，使焊接處工件熔化，形成熔池，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的焊接。

  cestbona

  1608

  2021/04/26

  電子束
• 電子束焊接
  電子束焊接是一種高能量密度焊接方法，利用對(duì)產(chǎn)生的高速電子束進(jìn)行聚焦，通過在工件上產(chǎn)生熱量來實(shí)現(xiàn)材料的熔接。這項(xiàng)技術(shù)在現(xiàn)代制造業(yè)中扮演著重要角色，具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和應(yīng)用領(lǐng)域。

  eefocus_3901714

  1530

  10/22 11:47

  焊接 電子束
• 電子束曝光
  電子束曝光是一種先進(jìn)的微影技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝、納米制造等領(lǐng)域。通過使用高速電子束對(duì)待加工物進(jìn)行準(zhǔn)確的曝光，可以實(shí)現(xiàn)微小尺寸和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造，具有極高的分辨率和精度。

  eefocus_3781508

  6534

  2023/07/26

  電子束

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