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光掩膜板

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  • 我國(guó)超精細(xì)金屬掩膜版材料獲得新突破
    我國(guó)超精細(xì)金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過(guò)黃金的金屬光罩,OLED面板用超精細(xì)金屬掩膜版(FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量,是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進(jìn)入門檻很高、市場(chǎng)依賴性強(qiáng),成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
  • 光罩(Mask/掩膜版)的系統(tǒng)性講解
    光罩(Mask/掩膜版)的系統(tǒng)性講解
    光罩(Mask),也稱為掩膜版,是集成電路(IC)制造過(guò)程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具,光罩將設(shè)計(jì)好的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面,其質(zhì)量直接決定了芯片制造的精度和性能。
  • 光刻掩膜版用什么藥液來(lái)洗?
    學(xué)員問(wèn):光罩臟了,該如何清洗,洗的頻率如何?用了什么原理?掩膜版(光罩)為什么會(huì)臟?以投影式光刻機(jī)與接觸式光刻機(jī)為例,關(guān)于投影式與接觸式光刻機(jī)見(jiàn)之前的文章:《什么是接觸式/接近式/投影式/步進(jìn)式光刻機(jī)?》
  • 產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲?
    產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲?
    光掩膜在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,彰顯了其在技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級(jí)進(jìn)程中的核心角色。伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日新月異,對(duì)光掩模的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)亦隨之不斷提升,這一趨勢(shì)持續(xù)驅(qū)動(dòng)著光掩模技術(shù)的深入發(fā)展與持續(xù)創(chuàng)新。
  • EUV掩膜版用什么材質(zhì)做的?
    學(xué)員問(wèn):聽(tīng)說(shuō)EUV的掩膜版是反射式的,但是我們常見(jiàn)的掩膜版都是透射式的,為什么會(huì)這樣?EUV掩膜版結(jié)構(gòu)麻煩介紹下。
  • FMM為高世代OLED競(jìng)爭(zhēng)蓄勢(shì)
    FMM為高世代OLED競(jìng)爭(zhēng)蓄勢(shì)
    在OLED大尺寸化浪潮下,上游關(guān)鍵核心材料——FMM(精細(xì)金屬掩模版)也開(kāi)始為適配8代OLED面板作準(zhǔn)備。日本材料廠商DNP(大日本印刷)、韓國(guó)材料廠商Poongwon Precision(豐元精密)先后宣布布局8代FMM。我國(guó)金屬掩膜版材料企業(yè)也在默默蓄力。8代FMM真的要來(lái)了?
  • ?市場(chǎng)規(guī)模接近全球六成,我國(guó)平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    ?市場(chǎng)規(guī)模接近全球六成,我國(guó)平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    掩膜版又稱光罩、光掩膜,是光刻工藝中的關(guān)鍵耗材,從應(yīng)用角度看,主要分為半導(dǎo)體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步向中國(guó)轉(zhuǎn)移,以及在高世代、高精度市場(chǎng)需求的帶動(dòng)下,2025年中國(guó)平板顯示掩膜版市場(chǎng)規(guī)模全球占比有望超過(guò)60%。不過(guò)業(yè)內(nèi)人士強(qiáng)調(diào),盡管我國(guó)掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快,但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況,關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍被掣肘。
  • 光刻掩膜版測(cè)溫儀 光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀
    光刻掩膜版測(cè)溫儀  光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀
    合肥智測(cè)電子有限公司是一家專注于實(shí)驗(yàn)室 高精度測(cè)溫儀模塊、溫度變送器 、溫度傳感器、 溫濕度測(cè)量檢測(cè)記錄、車間工程使用 、環(huán)境潔凈工程、注塑涂裝無(wú)塵室、研發(fā)生產(chǎn)計(jì)量校驗(yàn)儀器設(shè)備、測(cè)溫儀模塊、溫度檢測(cè)儀器、傳感器等,為用戶提供可靠高效的解決方案
  • 光刻掩模版相關(guān)產(chǎn)品供應(yīng)商列表
    光刻掩模版相關(guān)產(chǎn)品供應(yīng)商列表
    在所有半導(dǎo)體制造工藝環(huán)節(jié)里,光刻工序往往是技術(shù)含量最高和最重要的。大家在研究光刻工藝時(shí)一般主要把關(guān)注點(diǎn)放在了光刻機(jī)和光刻膠等領(lǐng)域,其次時(shí)光刻膠配套試劑。而關(guān)于光刻掩模版的討論相對(duì)少很多。所以我這次特意整理了一下光刻掩模版及相關(guān)配套產(chǎn)品的供應(yīng)商信息,供大家參考
  • 掩膜板供需亮紅燈,半導(dǎo)體光掩膜板罕見(jiàn)全面漲價(jià)5%~25%
    半導(dǎo)體制程所需的Photo Mask供需亮起了紅燈。由于供應(yīng)不足,價(jià)格上漲,交貨時(shí)間被推遲。本就無(wú)望緩解的半導(dǎo)體供需難問(wèn)題將進(jìn)一步加重。
  • 掩模版
    掩模板,又稱掩膜、掩?;騧ask,是一種在微電子制造過(guò)程中用來(lái)形成圖案和結(jié)構(gòu)的工具。它扮演著將指定圖形投影到半導(dǎo)體器件上的關(guān)鍵角色。

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