中國(guó)大陸晶圓制造用EDA軟件供應(yīng)商排名出爐，這家公司毫無(wú)意外霸榜

2019 年 5 月，芯思想研究院（ChipInsights）推出了中國(guó)大陸晶圓制造用 EDA 軟件供應(yīng)商排名。2018 年中國(guó)大陸晶圓制造用 EDA 軟件總體市場(chǎng)規(guī)模不足 1 億美元，約為 9400 萬(wàn)美元。

 

晶圓制造用 EDA 軟件包括：OPC（optical proximity correction，光學(xué)鄰近校正）、Yield Management（量率管理）、Mask Data Processing（掩模數(shù)據(jù)處理）、TCAD、SPICE modeling（器件建模）等軟件工具。

 

 

據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）統(tǒng)計(jì)，全球晶圓制造用 EDA 軟件市場(chǎng)規(guī)模約 7 億美元，市占率前三名分別是明導(dǎo)（Mentor）、阿斯麥（ASML）和新思（Synopsys）。

 

OPC（光學(xué)鄰近校正）是最大的晶圓制造用 EDA 市場(chǎng)，其市場(chǎng)規(guī)模達(dá) 4 億美元。在深亞微米的半導(dǎo)體制造中，由于關(guān)鍵圖形的 CD 已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于光源的波長(zhǎng)，所以由于光的衍射效應(yīng)，導(dǎo)致光罩投影至硅片上面的圖形有很大的變化，如線寬的變化，轉(zhuǎn)角的圓化，線長(zhǎng)的縮短等，以及各種光學(xué)臨近效應(yīng)。為了避免這些效應(yīng)的產(chǎn)生，直接修改 Design house tape out 出來(lái)的 Pattern,然后再交給 mask shop 去做 mask。例如將 line end 上修改成 hammer head 之類的 pattern，諸如此類。這個(gè)修正的迭代過(guò)程就叫 OPC。

 

而在 Yield Management（量率管理）市場(chǎng)，原來(lái)主要由美國(guó) PDF Solution 主導(dǎo)，但是現(xiàn)在中國(guó)大陸公司已經(jīng)開(kāi)始嶄露頭角，并取得相當(dāng)?shù)某煽?jī)。

 

令人鼓舞的是，SPICE modeling（器件模型）是 EDA 領(lǐng)域難得的由中國(guó)大陸廠商主導(dǎo)的分支領(lǐng)域。

 

明導(dǎo)（Mentor）

成立于 1981 年的明導(dǎo)在物理驗(yàn)證（physical verification）、設(shè)計(jì)概念到功能驗(yàn)證（design concept-through-functional verification）和印刷電路板設(shè)計(jì)（printed circuit board design）領(lǐng)域具有相當(dāng)功力。

 

明導(dǎo)的制造工具套件提供分辨率增強(qiáng)（RET）所需的數(shù)據(jù)處理的無(wú)縫集成，例如相移掩模（PSM），散射條（SB）和光學(xué)鄰近校正（OPC），以及掩模規(guī)則檢查，掩模寫入器 過(guò)程修正和數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換都在一次批量運(yùn)行中完成。明導(dǎo)的解決方案基于通用的分層數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何處理引擎，提供諸如圖層派生，鏡像，縮放，旋轉(zhuǎn)，平面化填充以及全局和選擇性大小調(diào)整等功能。該流程以最重要的掩模寫入器格式輸出結(jié)束，用于亞波長(zhǎng)時(shí)代的高級(jí)掩模制作，例如 MEBES 和可變形光束（VSB）格式，以及 GDSII。

 

據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）數(shù)據(jù)表明，明導(dǎo)在全球晶圓制造用 EDA 軟件市場(chǎng)占有率約為 35%。

 

新思（Synopsys）

1987 年成立的 Synopsys，正如公司的英文組合（Synthesis optimization systems）一樣，在邏輯綜合市場(chǎng)幾乎沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

 

其在晶圓制造用 EDA 軟件包括 Silicon Engineering、TCAD、Atomic-Scale Modeling、Mask Synthesis、Mask Data Prep、Yield Management。

 

據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）數(shù)據(jù)表明，新思科技在全球晶圓制造用 EDA 軟件市場(chǎng)占有率約為 23.5%。

 

阿斯麥（ASML）

阿斯麥（ASML）在晶圓制造用 EDA 領(lǐng)域的收入主要來(lái)自于 2007 年收購(gòu)的 Brion。Brion 是一家由華人創(chuàng)辦的光學(xué)檢測(cè)公司，不僅成功地利用“計(jì)算光刻”解決了深亞微米和納米級(jí)半導(dǎo)體制造中所面臨的各種難題，包括高精度建模、器件設(shè)計(jì)的檢查與修正等，通過(guò)與光刻機(jī)巨頭 ASML 的技術(shù)銜接與創(chuàng)新，極大地?cái)U(kuò)展了光刻制造的容許度及對(duì)應(yīng)的市場(chǎng)，與 ASML 一起攜手實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造技術(shù)的跨越式發(fā)展。

 

據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）數(shù)據(jù)表明，阿斯麥公司在全球晶圓制造用 EDA 軟件市場(chǎng)占有率約為 28%。