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High-NA

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  • 深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設備展開激烈競爭，爭相導入或宣布市場進展，預示著半導體行業(yè)將迎來新一輪技術革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關注與行動。
  • 近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了
    近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了
    7月17日，全球最大的光刻設備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預訂額。不過相比去年同期的營收69億歐元、凈利潤19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績不及當時水平。
  • High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
    High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
    光刻機一直是半導體領域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎；再到后來的極紫外光刻機（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機（High-NA）正式登上歷史舞臺，進一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。
  • 2nm、1nm全靠它！High-NA EUV光刻機2025年末將正式商用
    3納米代工市場規(guī)模2026年將達到242億美元，比今年（12億美元）增加20倍以上。目前，三星電子是唯一一家宣布成功量產(chǎn)3納米的企業(yè)。三星電子、臺積電、英特爾等主要半導體企業(yè)開始引進EUV設備，隨著工程技術的發(fā)展，預計3納米將成為核心先進工藝
  • 下一代EUV光刻機，萬事俱備？
    光刻機在半導體領域一向是個熱門話題，這個能一次又一次突破工藝極限的設備仿佛一個時光機器，連接著芯片的現(xiàn)在和未來。從ASML宣布將推出下一代光刻機開始，人們的目光就從當前最新一代的0.33 NA光刻系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到了下一代0.55NA 光刻系統(tǒng)身上。