刻蝕工藝

• 什么是原子層刻蝕（ALE）？
  學員問：聽說過ALD，但是很少聽過ALE，麻煩講解下ALE的原理ALE，英文名Atomic Layer Etching，中文名原子層刻蝕。是和ALD相對的，均是自限性反應，一個是沉積一個是刻蝕。ALD是每個循環(huán)只沉積一層原子，ALE是每個循環(huán)只刻蝕一層原子。

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  12/17 14:25

  刻蝕工藝
• 射頻電源的頻率對刻蝕有什么影響？
  學員問：干法刻蝕中，射頻電源的功率與頻率對刻蝕結果都有哪些影響？什么是RF的功率與頻率？RF功率（RF Power）,是指射頻電源提供給等離子體系統的能量大小，用于等離子體的產生和穩(wěn)定,通常以瓦特（W）為單位。RF頻率（RF Frequency）,是指射頻電場的振蕩頻率，通常以赫茲（Hz）為單位。

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  12/16 10:15

  刻蝕工藝 射頻電源
• 晶圓刻蝕工藝中的Qtime管控
  

  Qtime管控（Queue Time Control）是半導體制造過程中一個重要的和效率管理環(huán)節(jié)，尤其在刻蝕工藝（ETCH）中顯得尤為重要。

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  12/10 12:19

  刻蝕工藝
• SiO2薄膜的刻蝕機理
  

  學員問：干法刻蝕SiO2的化學方程式怎么寫？刻蝕的過程是怎么樣的？干法刻氧化硅的化學方程式？以F系氣體刻蝕為例，反應的方程式為：?SiO2(s)+ CxFy +Ar(+)>SiF4 (g)+ CO(g)CxFy是來自刻蝕氣體（如CF?、CHF?）解離產生的氟自由基，用于氧化硅的化學刻蝕。

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  11/27 10:15

  刻蝕工藝 干法刻蝕
• 刻蝕工藝流程和步驟介紹
  刻蝕工藝用于在半導體芯片、集成電路和其他微納米器件中進行圖案化處理?？涛g通過去除或轉移覆蓋在硅片表面的材料，可以實現精確的結構定義和圖案形成。

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  12/06 14:02

  刻蝕工藝

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