二次電子是指在物體被高能粒子或光子轟擊后,被轟出并逸出該物體表面的電子。它是一種重要的電子顯微鏡成像技術(shù)中所使用的電荷感應(yīng)探針。
1.二次電子名詞解釋
二次電子是指由某種形式的激勵使得一個物體表面上原本束縛在那里的電子被釋放出來,并從表面彈射走,這些被釋放出去的電子就叫做二次電子。
二次電子是電子顯微鏡成像技術(shù)的關(guān)鍵組成部分之一,具有非常重要的應(yīng)用價值。通過控制粒子束的能量和入射角度等參數(shù),可以獲得對樣品表面高分辨率的成像效果。
2.二次電子的產(chǎn)生與危害
二次電子的產(chǎn)生是通過高能粒子或光子與物體表面的原子相互作用引發(fā)的。在電子顯微鏡成像技術(shù)中,通常使用高能電子轟擊樣品表面來產(chǎn)生二次電子。
需要注意的是,高能電子轟擊可能會使得樣品表面受到損傷甚至被氧化等,因此需要進(jìn)行合適的實(shí)驗(yàn)條件選擇,并對樣品進(jìn)行充分的保護(hù)以避免危害和影響成像效果。
3.二次電子成像原理及應(yīng)用
二次電子成像技術(shù)是通過測量由二次電子所帶來的電荷感應(yīng)信號來進(jìn)行成像。當(dāng)高能電子轟擊樣品表面時,會產(chǎn)生一系列次級電子,包括二次電子和背散射電子等。
二次電子具有強(qiáng)烈的表面靈敏性和高分辨率特點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于各種表面形貌和材料性質(zhì)的研究。例如,在材料科學(xué)、納米電子學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,二次電子成像技術(shù)都具有極其重要的應(yīng)用價值。