“行家說三代半”獲悉,近期國內(nèi)多家SiC企業(yè)均獲得了最新技術(shù)突破,涉及溝槽技術(shù)、大尺寸制備等:
●?青禾晶元:實現(xiàn)了高質(zhì)量晶圓級SiCOI(6寸,SiC膜厚1μm±100nm)的規(guī)模化生產(chǎn)。
●?國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京):成功攻關(guān)溝槽型碳化硅MOSFET芯片制造關(guān)鍵技術(shù)。
●?上海漢虹:使用自行研發(fā)制造的碳化硅長晶爐成功拉制出高品質(zhì)8英寸碳化硅晶體。
青禾晶元:SiCOI實現(xiàn)規(guī)模化生產(chǎn)
8月28日,青禾晶元官微宣布,他們在絕緣體上碳化硅(SiCOI)材料的制備技術(shù)上取得了重大突破,成功實現(xiàn)了高質(zhì)量晶圓級SiCOI(6寸,SiC膜厚1μm±100nm)的規(guī)?;a(chǎn)。
長期以來,高質(zhì)量SiCOI材料的制備一直是一項極具挑戰(zhàn)性的任務(wù),需要解決晶圓鍵合、微納加工等多個技術(shù)難題,業(yè)內(nèi)前期探索主要是小尺寸樣品的制備嘗試。
青禾晶元成功攻克了這些技術(shù)難關(guān),實現(xiàn)了高質(zhì)量晶圓級SiCOI的制備,該公司科研人員通過優(yōu)化晶圓鍵合質(zhì)量、完善微納加工工藝等手段,確保了SiCOI材料的高純度、高均勻性和高性能,為后續(xù)器件的制造和性能提升奠定了堅實基礎(chǔ)。
值得一提的是,青禾晶元已正式參編《2024碳化硅(SiC)產(chǎn)業(yè)調(diào)研白皮書》,將與眾多行家企業(yè)一起深入剖析碳化硅產(chǎn)業(yè)脈絡(luò)。《白皮書》將于今年12月中旬發(fā)布,屆時也將深入展示青禾晶元的SiC最新進展和布局。
除青禾晶元外,合盛新材料、芯聚能、安海半導(dǎo)體、三安半導(dǎo)體、爍科晶體、天岳先進、恒普技術(shù)、華卓精科、快克芯裝備、泰坦未來、東尼電子、科友半導(dǎo)體、長聯(lián)半導(dǎo)體、致領(lǐng)半導(dǎo)體、奧億達新材料、瑞霏光電、才道精密、億值旺、純水一號、中科光智、中電化合物、森國科、清軟微視、士蘭微、清連科技、弘信新材、高泰新材、成都炭材等也已正式參編《2024碳化硅(SiC)產(chǎn)業(yè)調(diào)研白皮書》,期待更多SiC領(lǐng)域的行家企業(yè)加入,共同推進碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,了解更多詳情請掃描海報二維碼。
國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京):開發(fā)溝槽型碳化硅MOSFET芯片
9月1日,據(jù)“南京發(fā)布”官微消息,國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京)成功研發(fā)了溝槽型碳化硅(SiC)MOSFET芯片制造的關(guān)鍵技術(shù),在國內(nèi)實現(xiàn)首次突破。
據(jù)介紹,國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京)組織核心研發(fā)團隊和全線配合團隊歷時4年,不斷嘗試新工藝最終建立全新工藝流程,突破“挖坑”難、穩(wěn)、準等難點,成功制造出溝槽型碳化硅MOSFET芯片,較平面型提升導(dǎo)通性能30%左右。
國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心(南京)技術(shù)總監(jiān)黃潤華透露,目前中心正在進行溝槽型碳化硅MOSFET芯片產(chǎn)品開發(fā),推出溝槽型的碳化硅功率器件。預(yù)計一年內(nèi)可在新能源汽車電驅(qū)動、智能電網(wǎng)、光伏儲能等領(lǐng)域投入應(yīng)用。
此外,該中心還表示已啟動碳化硅超集結(jié)器件研究,該結(jié)構(gòu)的性能比溝槽型結(jié)構(gòu)的還要更優(yōu)更強,目前還在研發(fā)中。
上海漢虹:制備8英寸碳化硅晶體
8月30日,上海漢虹官微宣布,他們在拉晶實驗室中,使用自行研發(fā)制造的碳化硅長晶爐成功拉制出高品質(zhì)8英寸碳化硅晶體,此晶體具備優(yōu)良的均勻性和低缺陷密度,直徑達到200毫米標準,電阻率和晶向均符合高端應(yīng)用要求。
據(jù)悉,該晶體的制備使用了上海漢虹自行研發(fā)制造的碳化硅長晶爐,采用上進料方式和自動化控制,通過熱場旋轉(zhuǎn)及熱場工藝穩(wěn)定性設(shè)計,確保晶體生長過程中的溫度均勻性和穩(wěn)定性,目標為新能源汽車、5G通訊等新興產(chǎn)業(yè)的進一步發(fā)展提供材料基礎(chǔ)。