和近端串?dāng)_同樣的仿真電路圖,相關(guān)的仿真條件設(shè)置一樣,仿真得出的結(jié)果如下圖,以本例的數(shù)據(jù)來說,遠(yuǎn)端串?dāng)_的飽和長度竟然達(dá)到22.56inch,相當(dāng)于30個(gè)上升邊時(shí)間的空間區(qū)域長度,遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于近端串?dāng)_的飽和長度。
這說明,近端串?dāng)_很容易飽和,遠(yuǎn)端串?dāng)_不容易飽和。沒達(dá)到飽和之前,噪聲幅值是增加的,所以相對于近端串?dāng)_來說,更需要管控遠(yuǎn)端串?dāng)_。這也就是很多設(shè)計(jì)資料沒有對近端串?dāng)_提出設(shè)計(jì)指標(biāo),只對遠(yuǎn)端串?dāng)_提出設(shè)計(jì)指標(biāo)的原因之一。
飽和長度的影響因素
上升邊時(shí)間
驗(yàn)證上升邊時(shí)長對遠(yuǎn)端串?dāng)_飽和長度的影響,取三個(gè)上升邊時(shí)間來進(jìn)行仿真:50ps,100ps,200ps。100 ps是前面仿真的一個(gè)值,用50ps和200ps來對比驗(yàn)證,查看上升邊時(shí)長的變化對飽和長度的影響,仿真結(jié)果如下:
仿真結(jié)果可以很直觀地看出,上升邊越長,飽和長度越長。需要注意的是:和近端串?dāng)_一樣,遠(yuǎn)端串?dāng)_的飽和長度也會(huì)達(dá)到最大值,不會(huì)無限長,飽和后噪聲幅值會(huì)持續(xù)一段時(shí)間。
線間距的不同
為了驗(yàn)證線間距對飽和長度影響,選擇2W,3W和4W的三個(gè)類型來進(jìn)行仿真對比,相關(guān)仿真的結(jié)果如下:
仿真結(jié)果表明:線間距越大,飽和長度越長。
表層和內(nèi)層
由前文的仿真結(jié)果得出:近端串?dāng)_的表層和內(nèi)層的飽和長度是不同的。電路圖和前文相同,遠(yuǎn)端串?dāng)_的表層和內(nèi)層的相關(guān)仿真結(jié)果如下:
仿真結(jié)果表明:內(nèi)層沒有遠(yuǎn)端串?dāng)_。
原因如下:本例所用的疊層信息,如下圖,為了更好地體現(xiàn)串?dāng)_的相關(guān)特征,使用的疊層里關(guān)于損耗因子和銅箔的損耗相關(guān)的因素都是無損,信號(hào)線周圍的介質(zhì)都是一樣的,且都是均勻分布,所以信號(hào)線的耦合,不管是容性耦合還是感性耦合都是相同的,遠(yuǎn)端串?dāng)_系數(shù)為零,對應(yīng)的公式如下圖。在這種情況下,就不會(huì)出現(xiàn)遠(yuǎn)端串?dāng)_。
遠(yuǎn)端耦合系數(shù)公式:
但是,在實(shí)際的產(chǎn)品疊層設(shè)計(jì)中,上下的介質(zhì)材料是不同的,即使材料完全相同,壓合工藝的差別也會(huì)造成介電常數(shù)的不同,容性耦合與感性耦合所受到的影響是不同的,這時(shí)候就會(huì)產(chǎn)生遠(yuǎn)端串?dāng)_。也有的資料從模態(tài)上,就是奇模和偶模傳輸速度的不同來理解。
這兩個(gè)方向,都能說明在正常產(chǎn)品設(shè)計(jì)中,串行serdes的信號(hào)選擇內(nèi)層而不是表層走線,除了損耗和阻抗的原因,也可以更好管控遠(yuǎn)端串?dāng)_。
但最合適的不一定是最好的,很多規(guī)定都不是固定的,SSD的芯片產(chǎn)品就選擇將高速并行信號(hào)走在表層。
有知道的小伙伴,可以評(píng)論區(qū)里講講為什么?