在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻工藝可以說是所有制造環(huán)節(jié)里最復(fù)雜的一道了。由此,無論是光刻機(jī)還是光刻膠都是大家關(guān)注的焦點(diǎn),甚至在網(wǎng)絡(luò)上也成為了熱門話題不過相對而言,似乎光刻掩模版相關(guān)的話題熱度就少了很多。其實(shí)這個(gè)領(lǐng)域也并不簡單,在光刻掩模版及其上游供應(yīng)鏈里也存在著大量的機(jī)會(huì),值得行業(yè)關(guān)注
最近看到有人在微信群里討論相關(guān)話題,我便想起自己電腦正好有相關(guān)供應(yīng)商的數(shù)據(jù),便順手整理出來供大家參考這個(gè)表格里除了掩模版本身,也同時(shí)收錄了其上游材料和配套產(chǎn)品的信息,供大家一并參考另外,目前我對掩模版(PhotoMask)的分類是按照應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行區(qū)分的。如果按照技術(shù)路徑區(qū)分,掩模版還可以分成Binary、Phase Shift、EUV等多種類型。限于篇幅,我在這篇文章里就不展開細(xì)聊了我的線上課程里后續(xù)會(huì)安排一節(jié)光刻技術(shù)的課程,我爭取在這堂課里把光刻工藝、光刻機(jī)、光刻膠以及掩模版的基本原理和相關(guān)行業(yè)知識都講清楚歡迎有興趣的朋友屆時(shí)報(bào)名,參與線上交流。謝謝
最后還是給我的線上課程帶一下貨:10月31號,我會(huì)和大家討論一下半導(dǎo)體制造的一些基本概念。按照傳統(tǒng),每次課上第一部分,我會(huì)仔細(xì)和大家講一下半導(dǎo)體市場的景氣度以及后市預(yù)測
有興趣的朋友,務(wù)必報(bào)名參加討論。期待你的加入,謝謝