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EUV光刻機(jī)

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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。

極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。收起

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    深度丨EUV光刻機(jī)巨頭風(fēng)云爭(zhēng)奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來(lái)仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競(jìng)爭(zhēng),爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展,預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來(lái)新一輪技術(shù)革新。目前,英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。
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    雖然表面上看,光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的工具之一,但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機(jī)依賴于波長(zhǎng)僅為13.5納米的極端紫外線(EUV)光源,而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個(gè)非常難以控制的“燈泡”,但這個(gè)“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作,還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強(qiáng)大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會(huì)影響最終的成像效果。
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    ASML營(yíng)收額的增長(zhǎng)勢(shì)頭可能將迎來(lái)急剎車。荷蘭費(fèi)爾德霍芬時(shí)間10月15日,ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào),財(cái)報(bào)顯示,2024年第三季度,ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額74.67億歐元,環(huán)比增長(zhǎng)19.6%;凈利潤(rùn)達(dá)20.77億歐元,環(huán)比增長(zhǎng)31.6%,二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來(lái)的歷史新高。然而,該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元,環(huán)比減少52.7%,不及市場(chǎng)預(yù)期的54億歐元的一半,接近2021年第一季度以來(lái)的歷史低值(2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元)。
  • ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額75億歐元,凈利潤(rùn)為21億歐元
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    阿斯麥(ASML)今日發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào)。2024年第三季度,ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額75億歐元,毛利率為50.8%,凈利潤(rùn)達(dá)21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2,其中14億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間,毛利率介于49%到50%,2024年全年的凈銷售額約為280億歐元。ASML還預(yù)計(jì),2025年的凈銷售額在300億至