虛擬制造

• 線邊緣粗糙度(LER)如何影響先進節(jié)點上半導體的性能
  

  介紹 由后段制程(BEOL)金屬線寄生電阻電容(RC)造成的延遲已成為限制先進節(jié)點芯片性能的主要因素[1]。減小金屬線間距需要更窄的線關鍵尺寸(CD)和線間隔，這會導致更高的金屬線電阻和線間電容。圖1對此進行了示意，模擬了不同后段制程金屬的線電阻和線關鍵尺寸之間的關系。即使沒有線邊緣粗糙度(LER)，該圖也顯示電阻會隨著線寬縮小呈指數(shù)級增長[2]。為緩解此問題，需要在更小的節(jié)點上對金屬線關鍵尺寸進

  與非網(wǎng)編輯

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  2023/06/12

  EUV 泛林集團
• 溫故2016︱工業(yè)4.0六大技術關鍵詞，智慧工廠離我們有多遠？
  被稱為第四次工業(yè)革命的工業(yè)4.0戰(zhàn)略于2011年誕生于德國，是德國聯(lián)邦教研部與聯(lián)邦經(jīng)濟技術部在2013年漢諾威工業(yè)博覽會上提出的概念，于2013被德國政府納入國家戰(zhàn)略?？梢哉f工業(yè)4.0是對傳統(tǒng)制造的一種挑戰(zhàn)，從而達到智能制造。

  張亞

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  2016/12/21

  物聯(lián)網(wǎng) 機器人

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