兩全其美 – 無(wú)折衷的先進(jìn)工藝寄生參數(shù)提取方法
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[摘要] 納米設(shè)計(jì)的復(fù)雜性日益增加,加上先進(jìn)制造工藝產(chǎn)生的新影響,給努力實(shí)現(xiàn)流片的設(shè)計(jì)工程師構(gòu)成了雙重威脅。要同時(shí)提供 FinFET 等詳細(xì) 3D 結(jié)構(gòu)必不可少的寄生參數(shù)提取精度,以及實(shí)現(xiàn)全芯片設(shè)計(jì)(在多個(gè)不同布線層上具有成百上千萬(wàn)個(gè)網(wǎng)絡(luò))快速
十種常見(jiàn)的器件噪聲分析錯(cuò)誤
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[摘要] 器件噪聲的影響在納米級(jí) CMOS 工藝中極為關(guān)鍵,因?yàn)樗诟旧现萍s了許多 45 nm 及以下工藝電路的性能。當(dāng)給定正確的工具,器件噪聲分析 (DNA) 將是一個(gè)相當(dāng)簡(jiǎn)單的過(guò)程,并且仿真結(jié)果與硅測(cè)量結(jié)果只有 1 - 2 dB 的誤差。
使用 Calibre Pattern Matching 的復(fù)雜器件驗(yàn)證
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[摘要] 在版圖驗(yàn)證過(guò)程中,由于版圖放大、層衍生或數(shù)據(jù)分塊的影響,由精確多段多邊形組成的曲線和其他形狀可能會(huì)發(fā)生吸附。使用 Calibre Pattern Matching 驗(yàn)證這些復(fù)雜器件版圖可簡(jiǎn)化實(shí)施要求和下游支持工作。
加快移動(dòng)產(chǎn)品上市步伐
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[摘要] 計(jì)算機(jī)電子展 (CES) 依舊讓人驚嘆不已。展會(huì)中展出了 IoT 產(chǎn)品、可穿戴設(shè)備、二合一移動(dòng)電腦和發(fā)展飛速的智能手機(jī),其中智能手機(jī)仍占據(jù)著移動(dòng)市場(chǎng)最大的份額。 這些產(chǎn)品的核心部件是一個(gè)應(yīng)用程序處理器單元 (APU),典型示例
小型 PCB 設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)如何利用設(shè)計(jì)規(guī)則檢查來(lái)化解高速設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)
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[摘要] 對(duì)于 PCB 設(shè)計(jì)工程師和小型團(tuán)隊(duì)而言,解決SI(信號(hào)完整性)和EMI(電磁干擾)問(wèn)題是一項(xiàng)每天都要面對(duì)的挑戰(zhàn)。通過(guò)使用設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC),避免輻射測(cè)試失敗或信號(hào)完整性相關(guān)故障等最終產(chǎn)品問(wèn)題。本白皮書(shū)回顧了 SI/EMI 挑戰(zhàn)的
Siemens Digital Industries Software簡(jiǎn)介
西門(mén)子數(shù)字化工業(yè)軟件致力于推動(dòng)數(shù)字化企業(yè)轉(zhuǎn)型,實(shí)現(xiàn)滿足未來(lái)需求的工程、制造和電子設(shè)計(jì)。西門(mén)子的Xcelerator 解決方案組合可幫助各類(lèi)規(guī)模的企業(yè)創(chuàng)建并充分利用數(shù)字雙胞胎,為機(jī)構(gòu)帶來(lái)全新的洞察、機(jī)遇和自動(dòng)化水平,促進(jìn)創(chuàng)新。

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