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自對齊多重曝光軌道分解技術(shù)
[摘要]

一旦決定使用特定的 SAMP 工藝，設(shè)計人員就必須確定最佳版圖分解，以生成所需的掩膜版，同時遵守所有相關(guān)的設(shè)計規(guī)則。IMEC 和 Siemens Digital Industries Software 共同介紹了生成符合 DRC 要求的軌道（線條）掩膜版的分解要求和技術(shù)。Calibre 多重曝光工具不僅可以自動執(zhí)行分解過程，還能幫助設(shè)計人員在繪制的目標形狀無法正確生成軌道掩膜版時更快、更準確地調(diào)試錯誤。
資源類型：pdf
資源大小：887.58KB
所屬分類：白皮書
Siemens Digital Industries Software簡介
西門子數(shù)字化工業(yè)軟件致力于推動數(shù)字化企業(yè)轉(zhuǎn)型，實現(xiàn)滿足未來需求的工程、制造和電子設(shè)計。西門子的Xcelerator 解決方案組合可幫助各類規(guī)模的企業(yè)創(chuàng)建并充分利用數(shù)字雙胞胎，為機構(gòu)帶來全新的洞察、機遇和自動化水平，促進創(chuàng)新。

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