ASML，今年賣(mài)了多少光刻機(jī)？

作者：九林

1984年4月1日愚人節(jié)這一天，飛利浦和跟荷蘭的一家小公司合資，成了一家新公司。新公司的縮寫(xiě)叫ALS，跟漸凍癥的縮寫(xiě)是一樣的。一直到1996年，這家公司改名叫ASML。

也就是現(xiàn)在，大名鼎鼎的ASML。今年，ASML的High NA EUV光刻機(jī)成為設(shè)備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標(biāo)準(zhǔn) EUV 光刻機(jī)的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進(jìn)制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺(tái)積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。

ASML光刻巨頭的生意風(fēng)生水起，今年ASML又賣(mài)了多少臺(tái)光刻機(jī)？

?01、ASML有哪些光刻機(jī)？

想要知道ASML究竟賣(mài)了多少光刻機(jī)，首先要簡(jiǎn)單了解一下這個(gè)光刻巨頭到底造了哪些類(lèi)型的光刻設(shè)備。

ASML的成長(zhǎng)史，可以說(shuō)是光刻機(jī)迭代史。

PAS 2000、PAS 2500的起步階段

我們回到最初的1984年，新生的ASML呱呱墜地。當(dāng)時(shí)ASML的產(chǎn)品只有16臺(tái)飛利浦當(dāng)作庫(kù)存的PAS 2000。但這款光刻機(jī)采用油壓傳動(dòng)臺(tái)，有著巨大的缺陷，沒(méi)有客戶看得上。在發(fā)現(xiàn)了PAS 2000問(wèn)題后，ASML決定開(kāi)發(fā)新一代采用電動(dòng)晶圓臺(tái)的光刻機(jī)，型號(hào)PAS 2500。1986年推出非常棒的第二代產(chǎn)品PAS 2500，并第一次賣(mài)給美國(guó)當(dāng)時(shí)的創(chuàng)業(yè)公司賽普拉斯（Cypress）。1988年，飛利浦將MEGA生產(chǎn)線搬到了臺(tái)積電，結(jié)果突發(fā)一場(chǎng)火災(zāi)。于是臺(tái)積電想ASML采購(gòu)了17臺(tái)PAS 2500，成為了ASML的最大客戶。正是因?yàn)檫@些訂單，AMSL終于開(kāi)始盈利了。

PAS 5500，一戰(zhàn)成名

PAS 5500是ASML的成名之戰(zhàn)，1991年發(fā)布，能夠?qū)崿F(xiàn)掃描式光刻。這時(shí)候IBM宣布將成為第一家在8英寸晶圓上制造芯片的公司。PAS 5500通過(guò)了IBM的產(chǎn)業(yè)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)了小批量交付。PAS 5500按照模塊化設(shè)計(jì)，客戶可以根據(jù)不同工藝隨意選配不同部件包，包括：55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C等等等，涵蓋了各種光源（i線和KrF），各種尺寸（4-12英寸），各種鏡頭（i線和KrF鏡頭），各種投影模式（stepper/scanner）。這就使得一臺(tái)設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)百花齊放。PAS 5500的戰(zhàn)績(jī)不止于IBM，三星裝機(jī)第一臺(tái)PAS 5500后生產(chǎn)出了250nm工藝的16Mb存儲(chǔ)器。SK 海力士在1996年裝機(jī)后，1998年直接成為了AMSL的最大客戶。

TWINSCAN 和浸沒(méi)式技術(shù)

時(shí)間來(lái)到了1990年代末，光刻機(jī)的波長(zhǎng)也從248nm進(jìn)入到193nm，這就是著名的ArF準(zhǔn)分子激光器。產(chǎn)業(yè)在193nm波長(zhǎng)上卡了近20年。干式193nm光刻機(jī)的極限工藝是65nm，再往下就很難實(shí)現(xiàn)了。產(chǎn)業(yè)內(nèi)提出了各種超越193nm的方案，相對(duì)而言157nm技術(shù)難度稍低。這時(shí)候，AMSL收購(gòu)了美國(guó)光刻機(jī)廠商AVG，儲(chǔ)備了157nm和EUV光刻機(jī)。直到2002年，在157nm技術(shù)研討會(huì)上，臺(tái)積電的林本堅(jiān)提出了浸沒(méi)光刻技術(shù)，找到了134nm波長(zhǎng)，一石激起千層浪。雖然浸入式光刻機(jī)的構(gòu)思非常巧妙，但從工程角度看，它并不難完成。ASML很快就按照設(shè)計(jì)制造出了134納米波長(zhǎng)光源的浸入式光刻機(jī)，TWINSCAN AT:1150i 。2006年ASML推出了第一臺(tái)批量生產(chǎn)的浸入式機(jī)器 XT:1700i。2008年又推出了TWINSCAN NXT:1950i可用于32納米芯片的量產(chǎn)，并迅速推動(dòng)ASML開(kāi)發(fā)出一系列用于亞32納米制程節(jié)點(diǎn)的光刻系統(tǒng)，包括NXT:1960i、NXT:1965i、NXT:1970i等。

改變時(shí)代的EUV

為了鞏固地位，AMSL在開(kāi)發(fā)浸入式光刻機(jī)的同時(shí)，就已經(jīng)向極紫外光源發(fā)起挑戰(zhàn)。它摸索出了一種新的EUV產(chǎn)生方法：用激光轟擊錫珠，讓其化為等離子態(tài)，從而產(chǎn)生EUV?；谶@個(gè)方法，ASML于2010年推出了第一臺(tái)EUV樣機(jī)。不過(guò)，將樣機(jī)變?yōu)榭梢凿N(xiāo)售的商品還需要很多投入，預(yù)期的投入可能達(dá)到每年10億歐元，以ASML的財(cái)力并沒(méi)有能力獨(dú)自完成這一切。為了解決這個(gè)問(wèn)題，它邀請(qǐng)了英特爾、三星和臺(tái)積電入股共同研發(fā)。終于，在2013年，量產(chǎn)的EUV光刻機(jī)NEX:3300B面世了——也就在這一年，溫寧克和范登布林克接過(guò)了公司的領(lǐng)導(dǎo)權(quán)。之后，AMSL于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，將光刻機(jī)的制程（即最小的電路柵格間距離）從7納米推到了5納米。2020年初，AMSL發(fā)貨了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)。再到2023年，再次推出了High NA EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5000。從AMSL的路線圖來(lái)看，在2025年還要推出將新一代High-NA EUV系統(tǒng)EXE:5200。

?02、ASML賣(mài)了多少光刻機(jī)？

筆者翻閱ASML財(cái)報(bào)，整理了其自2012年開(kāi)始的出貨數(shù)據(jù)。ASML出貨與其不斷成長(zhǎng)的光刻歷程息息相關(guān)。

DUV光刻機(jī)，出貨量的主力軍

ASML 2012-2023光刻機(jī)出貨量

如果按照光源類(lèi)型劃分，不僅有EUV光刻機(jī)，還有ArF浸入式光刻機(jī)、ArF干式光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)、i-line設(shè)備等。其中，ArF、ArF和KrF都屬于深紫外線光刻機(jī)(DUV)，這也是當(dāng)前半導(dǎo)體制造的主力。從2012年到2023年，ASML出貨量2235臺(tái)DUV光刻機(jī)。從2012年的出貨量來(lái)看，ArFi和KrF等深紫外線光刻機(jī)(DUV)出貨量遠(yuǎn)超EUV光刻機(jī)。畢竟，如前文鎖述，能夠量產(chǎn)的EUV也是在2013年才正式亮相。

從上圖來(lái)看，ArFi出貨數(shù)量一直保持在70-80臺(tái)左右，但2023年出現(xiàn)了暴漲，直接出貨125臺(tái)。KrF出貨量原先也一直維持在70左右，但從2020年開(kāi)始每年增長(zhǎng)近30臺(tái)左右。2020、2023這兩個(gè)時(shí)間節(jié)點(diǎn)大家都不陌生。

在2023年末，荷蘭和美國(guó)最新頒布的出口管制法規(guī)已經(jīng)生效。當(dāng)時(shí)阿斯麥?zhǔn)紫?cái)務(wù)官Roger Dassen表示：“2024年我們將不會(huì)獲得向中國(guó)發(fā)運(yùn)NXT:2000i及以上浸潤(rùn)式設(shè)備的出口許可證，此外，個(gè)別中國(guó)先進(jìn)芯片制造晶圓廠將無(wú)法獲得發(fā)運(yùn)NXT:1970i和NXT:1980i浸潤(rùn)式設(shè)備的許可證?！?strong>2023年，ASML賣(mài)了449臺(tái)光刻機(jī)，其中有53臺(tái)是EUV光刻機(jī)，396臺(tái)是DUV光刻機(jī)。2023年DUV光刻機(jī)的出貨量，很大一部分來(lái)自于中國(guó)市場(chǎng)。EUV光刻機(jī)，轉(zhuǎn)折點(diǎn)在2022

ASML 2012-2023 光刻機(jī)凈銷(xiāo)售額（單位：億歐元）

從2012年-2023年，AMSL一共出貨了233臺(tái)EUV光刻機(jī)。百位數(shù)的EUV光刻機(jī)的出貨量對(duì)比千位數(shù)的DUV光刻機(jī)。可以說(shuō)，出貨數(shù)量少的可憐，但架不住EUV高昂的價(jià)格。ASML 目前在售的雙工件臺(tái) EUV 光刻機(jī)單價(jià)約 1.2 億美元至 1.5 億美元左右。而其新一代高 NA EUV 光刻機(jī)造價(jià)更是高達(dá) 3 億至 3.5 億歐元（約合人民幣 21.95 億至 25.61 億元）。

從上圖來(lái)看，自2019年開(kāi)始，ASML的EUV光刻機(jī)銷(xiāo)售額出現(xiàn)了較大的增長(zhǎng)，而自2020年銷(xiāo)售額達(dá)到44億歐元后，直接超過(guò)了當(dāng)年的ArFi光刻機(jī)的銷(xiāo)售額（40億歐元）。

從此之后，EUV光刻機(jī)的銷(xiāo)售額就一騎絕塵。即使2023年，ArFi光刻機(jī)出貨數(shù)量爆增到125臺(tái)，賣(mài)出的價(jià)格也只有86億歐元。EUV光刻機(jī)的總銷(xiāo)售額還超過(guò)其5個(gè)億歐元。

地區(qū)營(yíng)收，誰(shuí)購(gòu)買(mǎi)了最多的光刻機(jī)？

ASML 地區(qū)出貨銷(xiāo)售額（單位：億歐元）

2012年開(kāi)始，韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)、美國(guó)對(duì)于ASML光刻機(jī)的購(gòu)買(mǎi)力是比較強(qiáng)的。當(dāng)時(shí)中國(guó)大陸被列為亞洲其他地區(qū)，進(jìn)而計(jì)算銷(xiāo)售額。自2015年后，由于中國(guó)大陸購(gòu)買(mǎi)金額增長(zhǎng)，被ASML財(cái)報(bào)再單拎出來(lái)，以上2015年后的亞洲其他地區(qū)數(shù)據(jù)實(shí)際為中國(guó)大陸的數(shù)據(jù)。

上圖中，中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)對(duì)于光刻機(jī)的購(gòu)買(mǎi)需求始終旺盛，基本是占了大頭。但也不難理解，臺(tái)積電作為全球第一的晶圓大廠，其資本支出一直是頂尖的。

可以看到，從2019年到2020年，ASML對(duì)中國(guó)臺(tái)灣的銷(xiāo)售額有明顯上漲。對(duì)比當(dāng)時(shí)的歷史來(lái)看，這個(gè)是節(jié)點(diǎn)臺(tái)積電正開(kāi)始量產(chǎn)7nm+制程（也就是EUV 版的 7nm），因此銷(xiāo)售金額增長(zhǎng)不足為奇。

韓國(guó)的光刻機(jī)購(gòu)買(mǎi)金額，從2018年到2019年有一個(gè)巨大的下滑，但需要注意的是，其2017年、2018年的金額達(dá)到30億歐元，相較之前15億歐元翻了一倍。2019年正是上一個(gè)中國(guó)大陸地區(qū)對(duì)于光刻機(jī)的購(gòu)買(mǎi)金額一直維持在20億歐元左右，但2023年暴漲了61億歐元，再次印證了前文所述，大陸只能在禁令下來(lái)前，現(xiàn)行購(gòu)買(mǎi)部分光刻機(jī)。

?03、2024年，ASML又賣(mài)了多少臺(tái)光刻機(jī)？

看完了ASML前十二年的回顧，我們來(lái)仔細(xì)看看，在禁令實(shí)施的第一年，ASML賣(mài)的如何吧。從地區(qū)來(lái)看，日本第一季度沒(méi)有購(gòu)買(mǎi)、歐洲第三季度也沒(méi)有購(gòu)買(mǎi)。值得注意的是，韓國(guó)今年依舊花了近30億歐元購(gòu)買(mǎi)光刻機(jī)，但原本一直占銷(xiāo)售大頭的中國(guó)臺(tái)灣剛剛花了16億歐元。

同時(shí)，大陸的購(gòu)買(mǎi)力也非常強(qiáng)，相比去年全年的61億歐元，今年才三個(gè)季度，已經(jīng)在ASML這里購(gòu)買(mǎi)了70億歐元的設(shè)備了。如果大陸Q4穩(wěn)定按照20億歐元的購(gòu)買(mǎi)力度，那今年中國(guó)大陸的銷(xiāo)售額會(huì)再創(chuàng)新高，甚至達(dá)到90億歐元。

在ASML公布2023年全年財(cái)報(bào)時(shí)，也對(duì)2024年的業(yè)績(jī)做出了預(yù)測(cè)。認(rèn)為 2024 年的凈銷(xiāo)售額將與2023年基本持平，而ASML 2023全年凈銷(xiāo)售額是276億歐元。按照276億歐元計(jì)算，今年中國(guó)市場(chǎng)將占ASML業(yè)績(jī)的三分之一。