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攻克關(guān)鍵技術(shù) 東方晶源ILT技術(shù)劍指先進制程

09/23 07:09
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計算光刻作為現(xiàn)代芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心技術(shù)之一,其發(fā)展經(jīng)歷了從規(guī)則導向到模型驅(qū)動的轉(zhuǎn)變。然而,隨著制程邁向7nm乃至5nm節(jié)點,傳統(tǒng)方法因規(guī)則局限、優(yōu)化自由度不足等制約,難以滿足復雜芯片設(shè)計的高要求。在此背景下,反向光刻技術(shù)(ILT)以其獨特的優(yōu)化思路應(yīng)運而生。

ILT即從目標芯片圖案出發(fā),逆向推導獲得最優(yōu)化掩模圖案,極大地提升優(yōu)化的靈活性和精準度,更能滿足先進制程對圖形精度的苛刻需求。因此,在探索7nm及以下制程的征途中,ILT技術(shù)無疑將是提升制造良率的關(guān)鍵技術(shù)。尤其在尖端光刻設(shè)備受限的國內(nèi)環(huán)境下,其重要性更是不言而喻。

ILT并非一種新興技術(shù),但其存在諸如計算量大效率低,掩模復雜度高難于制造等技術(shù)難點,長期以來尚未得到廣泛應(yīng)用。作為探索ILT技術(shù)的先驅(qū)之一,東方晶源ILT采用GPU集群高性能計算解決方案,解決了計算量大的難題,率先實現(xiàn)了全芯片級別的基于ILT技術(shù)的掩模優(yōu)化。面對7/5nm等先進制程的迫切需求,近期東方晶源ILT解決方案又成功攻克眾多技術(shù)難題,包括優(yōu)化收斂性、結(jié)果一致性、人工智能加速、掩模復雜度重整化等,目前正在國內(nèi)各大Fab廠商加緊驗證。

革新后的東方晶源ILT解決方案其主要特點及優(yōu)勢體現(xiàn)在以下幾個方面:

(1)獨創(chuàng)的混合掩模優(yōu)化方法,顯著降低計算復雜度,提升整體計算效率,特別是在優(yōu)化輔助曝光信號的同時考慮三維掩模效應(yīng),提供更為精準的掩模結(jié)果。

(2)引入人工智能技術(shù)進一步解決ILT所需運算時間長的弊端,其深度學習模型預(yù)測結(jié)果與ILT計算結(jié)果相似度高達95%,同時獲得近十倍的提速。

(3)支持矩形圖形(Rectangle)、曼哈頓圖形(Manhattan)以及曲線圖形(Curvilinear)的不同復雜度掩模設(shè)計,適應(yīng)不同客戶及應(yīng)用場景需求。


圖 1 人工智能賦能東方晶源全芯片ILT解決方案


圖 2 PanGen ILT?支持生成不同復雜度的掩模圖形


圖 3 PanGen ILT?結(jié)果相比傳統(tǒng)OPC結(jié)果工藝窗口增大超過10%

東方晶源自2014年成立以來,在計算光刻領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新,構(gòu)建了全面且領(lǐng)先的技術(shù)體系,旗下計算光刻平臺PanGen?已經(jīng)形成八大產(chǎn)品矩陣,包括Model、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC,具備完整的計算光刻相關(guān)EDA工具鏈條,并已在國內(nèi)各大Fab廠商廣泛應(yīng)用,量產(chǎn)掩模超6000張。隨著ILT解決方案的不斷革新,其在效率和性能上的優(yōu)勢更加突顯,必將在先進制程研發(fā)和應(yīng)用中發(fā)揮重要作用,在提升良率、降低生產(chǎn)成本方面展現(xiàn)出獨特的價值。展望未來,東方晶源將持續(xù)堅持技術(shù)創(chuàng)新,提供卓越的解決方案,為我國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進步貢獻智慧和力量。

東方晶源

東方晶源

東方晶源微電子科技(北京)股份有限公司成立于2014年,總部位于北京亦莊經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),是一家專注于集成電路良率管理的企業(yè)。公司自成立以來堅持以創(chuàng)新引領(lǐng)發(fā)展,申報國內(nèi)外發(fā)明專利480余項,授權(quán)發(fā)明專利121項,軟件著作權(quán)23項,注冊商標38項。獲得“國家高新技術(shù)企業(yè)”、“中關(guān)村高新技術(shù)企業(yè)”、“北京市專利試點企業(yè)”、“博士后工作站”、被評定為國家級專精特新“小巨人”企業(yè)等榮譽。

東方晶源微電子科技(北京)股份有限公司成立于2014年,總部位于北京亦莊經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),是一家專注于集成電路良率管理的企業(yè)。公司自成立以來堅持以創(chuàng)新引領(lǐng)發(fā)展,申報國內(nèi)外發(fā)明專利480余項,授權(quán)發(fā)明專利121項,軟件著作權(quán)23項,注冊商標38項。獲得“國家高新技術(shù)企業(yè)”、“中關(guān)村高新技術(shù)企業(yè)”、“北京市專利試點企業(yè)”、“博士后工作站”、被評定為國家級專精特新“小巨人”企業(yè)等榮譽。收起

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