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造不起芯片:流片費(fèi)用是罪魁禍?zhǔn)祝?/h1>

2023/06/18
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一家Fabless(芯片設(shè)計(jì)公司)在芯片研發(fā)上的開銷大頭大概有這么幾樣:購買IP、EDA工具、芯片設(shè)計(jì)人力成本、芯片流片費(fèi)用。

今天主要討論的是芯片流片方面的費(fèi)用。

最便宜的ASIC流片成本需要幾十萬一次,但隨著半導(dǎo)體工藝的升級,芯片設(shè)計(jì)和流片費(fèi)用都要呈指數(shù)級增長。

180nm的流片成本大概是50W元,55nm的成本在200W元,16nm成本就飆升到了3000W - 5000W元,到了7nm最低也要過億。

晶圓加工廠的“點(diǎn)沙成金術(shù)”,究竟值錢在哪里?

晶圓代工

最近,Revegnus在推特曝光了臺積電目前晶圓以及先進(jìn)工藝芯片代工價的表單。其中,臺積電最先進(jìn)的制程3nm今年報(bào)價每片晶圓19865美元。

圖片來源:The Information Network

從臺積電晶圓代工價格上看:

· 90nm制程2004年第四季度量產(chǎn),每片晶圓報(bào)價1650美元;

· 28nm于2011年第四季度量產(chǎn),每片晶圓報(bào)價2891美元;

· 5nm制程2020年第一季度量產(chǎn),每片晶圓報(bào)價為16988美元。相比7nm制程的7016美元,5nm價格上漲81.77%。

最先進(jìn)的3nm制程,今年的報(bào)價為每片19865美元,折合人民幣大概14.2萬

如果僅僅是計(jì)算晶圓代工價格,顯然是達(dá)不到百萬千萬、乃至上億的級別的。

那芯片流片為何又是動輒上百萬上千萬的花銷?這里就不得不提到掩模板制作了。

掩模板

在整個流片過程中,晶圓(wafer)和掩模板(mask)是花費(fèi)最高的兩項(xiàng)。其中,掩模板的費(fèi)用還要遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于晶圓。

什么是掩模板?我們要先理解晶圓加工的過程。

晶圓加工就是把芯片設(shè)計(jì)版圖(包括形狀、尺寸、層次等)復(fù)制到一塊半導(dǎo)體硅片上,其原理類似于膠片照相機(jī)的成像和沖洗過程。而掩模,就相當(dāng)于照相底片。

掩模是光刻過程中原始圖形的載體,光刻會通過曝光和顯影的過程,把這些圖形信息將傳遞到晶圓片上。所以掩模板的質(zhì)量就直接決定了光刻的質(zhì)量。

這里需要注意的是,這些圖形信息并不是只有一層。因?yàn)樾酒?a class="article-link" target="_blank" href="/tag/%E7%94%B5%E8%B7%AF/">電路是多層次的、立體的,每層的圖形形狀也有所不同。芯片制造需要十幾次甚至幾十次光刻,所以每次光刻都需要一塊掩模板。

每制作一層掩模板都需要涂一遍光刻膠,進(jìn)行一遍前烘、曝光、烘烤、顯影等流程。28nm大概需要40層,而14nm、7nm工藝就需要50層乃至80+層。

用到的掩模板越多,就說明芯片規(guī)模越大、越復(fù)雜,成本也就越高。

之前有報(bào)道提到,臺積電5nm全光罩流片費(fèi)用大概在3億人民幣左右。(中國臺灣省習(xí)慣將掩模板稱為光罩)

MPW和Full Mask

上述的這種昂貴的流片方式叫做Full Mask(全掩膜),就是指承包本次流片所用到的所有掩膜,一般這么干的都是比較“壕橫”的大公司。

換句話說,只有在設(shè)計(jì)完全有把握成功并且準(zhǔn)備大批量生產(chǎn)、商用的時候,才會采用Full Mask的流片方式。

那么不能承包的公司/高校,或者產(chǎn)品首次流片還沒有足夠把握的時候,又該如何呢?

晶圓加工廠貼心地給出了Plan B——MPW(多項(xiàng)目晶圓),多個項(xiàng)目共享某個晶圓。也就是把多個具有相同工藝的集成電路設(shè)計(jì)放在同一晶圓片上流片加工服務(wù)。

這樣一來,同一次制造流程就可以承擔(dān)多個來自不同公司的IC設(shè)計(jì)的制造任務(wù)。等流片結(jié)束后,各家公司/高校按照芯片所占的面積分?jǐn)傎M(fèi)用,領(lǐng)走各自的芯片產(chǎn)品。

這種操作方式可以讓流片費(fèi)下降90%-95%,也就大幅降低了芯片研發(fā)的成本。

寫在最后

掩模板的制作成本非常高昂,即使有MPW這樣降本增效的流片方式,但大多數(shù)IC設(shè)計(jì)企業(yè)還是難以抵抗芯片失敗帶來的損失。

于是業(yè)界中自然就會有人探索“無掩模光刻技術(shù)”,不需要再制作掩模板,成本自然就更低。只是目前仍處于探索的階段,還并不能大規(guī)模推行。

摩爾定律逐漸放緩、面臨失效的今天,集成電路的進(jìn)一步發(fā)展仍面對諸多挑戰(zhàn)。

科技的進(jìn)步,永無止境。

 

 

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